[发明专利]一种铝氮钪合金靶材的制备方法和应用

说明书

本发明公开了属于磁控溅射靶材制备技术领域的一种铝氮钪合金靶材的制备方法和应用。该方法以AlN粉、Sc粉为原料，经混合、压力烧结成型、机加工得到铝氮钪合金靶材，所得铝氮钪合金靶材的相对密度大于97％，能够应用于溅射沉积氮化物膜，溅射镀膜过程中，无需通入反应气体氮气即能稳定成膜。

技术领域

本发明属于磁控溅射靶材制备技术领域，特别涉及一种铝氮钪合金靶材的制备方法和应用。

背景技术

在新型微机电系统(MEMS)及射频滤波器等领域，铝氮钪薄膜由于具有优异的压电耦合系数，成为当前研究的热点。目前的现有技术，主要通过反应溅射铝钪合金靶来沉积铝氮钪薄膜，在溅射过程中需持续通入氮气，以作为反应气体；由于溅射过程中氮气会和靶材发生很强的电化学反应，靶面易覆盖一层化合物，使得溅射刻蚀区域异常放电，影响镀膜性能；此外，制造出的氮化物膜层中氮原子易缺失，造成薄膜合金成分比例失配。

发明内容

本发明的目的在于提供一种铝氮钪合金靶材的制备方法和应用，具体技术方案如下：

一种铝氮钪合金靶材的制备方法包括以下步骤：

(1)配料：按照目标铝氮钪合金靶材的合金成分，以AlN粉、Sc粉为原料进行配比；

其中，原料粉AlN粉粒径优选为0.1～50μm，Sc粉粒径优选为1～150μm。

(2)混粉：利用混料机将原料粉末均匀混合，或利用球磨机球磨、均匀混合；

(3)压力烧结：将步骤(2)所得混合粉末热压烧结或热等静压烧结成靶坯，其中烧结温度为1250～1520℃，压力为30～150MPa，保温保压时间为4～6h；

其中，步骤(2)中混粉过程、步骤(3)压力烧结过程均在真空条件或惰性气氛下进行，以避免原料粉末氧化；其中，真空度大于0.1Pa，惰性气体为Ar或其他不与原料粉发生反应的惰性气体。

(4)将步骤(3)所得靶坯机加工成铝氮钪合金单体成品靶材；所得铝氮钪合金靶材中铝氮钪合金(AlN)_1-xSc_x，x为0.1％～99.9％，余量为AlN；靶材的相对密度达到97％以上。

其中，还可采用常用技术手段包括焊接、咬合等方式，将步骤(3)所得靶坯经机加工后固定于背板上得到铝氮钪复合成品靶材。

利用所述制备方法制备的铝氮钪合金靶材或铝氮钪复合成品靶材，能够应用于溅射沉积氮化物膜。相比于现有技术，由于在块体靶材中已合金化氮，在溅射镀膜过程中，无需通入反应气体氮气，即可稳定地将铝、钪与氮的反应物按所需的化学配比稳定成膜，所得镀膜不易异常放电、工艺窗口宽、稳定性好。

本发明的有益效果为：本发明采用易于制造或购买的AlN、Sc粉为原料，利用压力烧结成型制备铝氮钪合金靶材，工艺简单，适合大批量工业化生产；所得靶材致密度高、不易开裂，应用于溅射镀膜中，能显著改善现有技术中存在的膜层氮原子缺失问题，即能确保薄膜合金成分比例。

附图说明

附图1为本发明铝氮钪合金靶材的制备方法流程图。

具体实施方式

本发明提供了一种铝氮钪合金靶材的制备方法和应用，下面结合实施例和附图对本发明做进一步的说明。

实施例1～8

根据附图1所示方法制备铝氮钪合金靶材：

(1)配料

按照表1中铝氮钪合金靶材成分，进行原材料配料：靶材化学成分为(AlN)_1-xSc_x，其中，Sc质量含量x为1～99％，余量为AlN；其中AlN粉粒径0.1～50μm，Sc粉粒径1～150μm。