[发明专利]一种在不透明基底上制备微结构的方法

权利要求书

1.一种在不透明基底上制备微结构的方法，其特征在于包括以下步骤：

(1)在载玻片的中央放置薄片状的不透明基底，将不透明基底与载玻片固定，在不透明基底的中央滴光刻胶，盖上盖玻片，完成载具制作；

(2)打开飞秒激光器和微加工工作台，将飞秒激光器锁模之后导入到微加工工作台中，将上述制作的载具横向固定于微加工工作台的三维移动平台上；

(3)进行第一步调焦，以使视野中出现清晰的不透明基底的表面图像；

(4)调出预先设计好的螺旋塔图案，开始光刻，该螺旋塔图案为标示连续排列的阵列，该阵列在水平面的投影中，由左向右横向排列n个标示后，朝上竖向排列n个标示，接着由右向左横向排列n个标示，然后向下竖向排列n-1个标示…依次循环而构成回形图，各相邻标示在水平投影上的间距均为a，且各标示分别相对于按排列顺序位于其前面的标示竖向上升高度b，其中5≤n≤8；

(5)光刻完成后，洗去未固化的光刻胶，将载具放到显微镜下进行观察，观察到高度h下的标示呈现清晰的像，记录该高度h作为飞秒激光双光子微加工的焦点起始位置；

(6)将光刻平台的视觉图像焦点调至不透明基底，即在视野中看到不透明基底的清晰的像，此时双光子汇聚焦点所在平面为基始面，将双光子汇聚焦点竖直向上移动上述高度h，接着打开飞秒激光器和微加工工作台，将所需光刻图案导入平台，进行有效光刻。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述不透明基底为表面粗糙的薄片，所述步骤(6)中将光刻平台的视觉图像焦点调至不透明基底表面。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述不透明基底为金属薄片。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述不透明基底为铜片，则上述高度h为13～30μm。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述高度h为22～24μm。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述不透明基底为表面光滑的薄片，所述步骤(6)中将光刻平台的视觉图像焦点调至不透明基底内部。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述不透明基底为非金属薄片。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述不透明基底为硅片，上述高度h为19～25μm。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述高度h为21～23μm。

10.如权利要求1～9任一项所述的方法，其特征在于，所述步骤(4)中a为10μm，b为1μm。