[发明专利]一种红外镜头用锗单晶双面抛光片的清洗工艺

权利要求书

1.一种红外镜头用锗单晶双面抛光片的清洗工艺，其特征是：采用无蜡工艺进行锗片双面抛光后，采用稀释的氢氟酸溶液浸泡去除表面抛光液，采用稀释的洗净剂超声去除表面沾污，采用稀释的氨水溶液兆声清洗进一步去除表面颗粒，达到免清洗表面，其工艺步骤如下：

（1）、将一面抛光好的锗片装入PFA花篮中，在稀释的氢氟酸溶液中浸泡5min，然后进行纯水冲洗；

（2）、将锗片放入稀释的洗净剂中超声5min，超声温度控制在50-60℃，然后进行纯水冲洗；

（3）、将第二面抛光好的锗片在稀释的氢氟酸溶液中浸泡5min，然后进行纯水冲洗；

（4）、将锗片依次放入两杯装有稀释的洗净剂溶液中，超声温度控制在50-60℃，每杯超声5min，然后在第3杯装有纯水中超声2min，再进行纯水冲洗；

（5）、将清洗后的锗片放入稀释的氨水溶液中兆声清洗10min，清洗温度为20-25℃，喷淋冲洗后甩干、检验；

所述稀释的氢氟酸溶液的体积比为氢氟酸：纯水=1:10，氢氟酸浓度为49%；

洗净剂为KILALA CLEAN 101洗净剂，KILALA CLEAN 101洗净剂成分为二乙醇胺、氢氧化四甲基胺；

所述稀释的洗净剂溶液的体积比为KILALA CLEAN 101洗净剂：纯水=1:10；

所述稀释的氨水溶液的体积比为氨水：纯水=1:50，氨水浓度为25%。