[发明专利]梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置及方法有效
申请号: | 201811149497.8 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN109001122B | 公开(公告)日: | 2023-05-26 |
发明(设计)人: | 徐均琪;苏俊宏;惠迎雪;李建超;吴慎将;杨利红;李阳;诗云云 | 申请(专利权)人: | 西安工业大学 |
主分类号: | G01N21/21 | 分类号: | G01N21/21 |
代理公司: | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人: | 黄秦芳 |
地址: | 710032 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 梯度 渐变 折射率 薄膜 光学 常数 测量 装置 方法 | ||
1.一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤1、薄膜样品初始几何厚度标定:采用轮廓仪对薄膜的几何厚度进行测量,获得其初始厚度信息,根据样品的测试要求,确定每次减薄的厚度步长;
步骤2、将待测样品(6)装夹在样品台(5)的下表面上,其镀膜面正对离子源(7),对真空室(4)进行抽真空,使其达到离子源(7)的工作真空度;
步骤3、采用椭偏参数检测系统测量薄膜样品的初始椭偏信息,即椭偏参数Ψn和Δn;
步骤4、打开离子源(7),用氩离子束对薄膜进行刻蚀减薄一个步长的厚度,采用石英晶振膜厚仪(8)检测减薄的膜厚,刻蚀掉的膜层厚度记为dn,对应第Ln层;
采用椭偏参数检测系统测量减薄后薄膜样品的椭偏参数Ψn-1和Δn-1;
步骤5、再次打开离子源(7),使用氩离子束对薄膜进行刻蚀减薄,同时采用石英晶振膜厚仪(8)检测减薄的膜厚,刻蚀掉的膜层厚度记为dn-1,对应第Ln-1层;
采用椭偏参数检测系统再次测量减薄后薄膜样品的椭偏信息Ψn-2和Δn-2;
步骤6、反复进行步骤5,直到薄膜厚度减薄到厚度步长以下,对应第L1层的膜厚记为d1,采用椭偏参数检测系统测量样品的椭偏信息Ψ1和Δ1;
步骤7、数据处理与分析:根据Ψ1,Δ1和d1的数值,计算L1层薄膜的折射率n1和消光系数k1;
步骤8、依次计算L2、L3直到Ln层的折射率和消光系数,从而获得薄膜样品沿厚度方向的光学常数分布,实现梯度折射率薄膜光学常数的测量;
上述测量方法所使用的梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置,包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源(7),所述真空系统包括真空室(4)和样品台(5);所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪(8);
所述样品台(5)安装在真空室(4)的顶部,离子源(7)安装在真空室(4)底部,两者相对而放,离子源(7)的离子束输出口正对样品台设置;
所述椭偏参数检测系统的光源波长为300-900 nm;测试光入射角度为65°;
所述离子源(7)的离子能量在0-3000 eV之间。
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