[发明专利]音箱抛光设备及其抛光方法在审
申请号: | 201811150109.8 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN109079644A | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 吴洋;唐华;林海辉;梁志昌 | 申请(专利权)人: | 惠州市金山电子有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B27/00;B24B41/00;B24B41/06;B24B57/02 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 刘羽 |
地址: | 516006 广东省惠州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多维运动 机械手 抛光轮 音箱 打蜡装置 机械装置 抛光设备 抛光装置 真空吸附 置物装置 治具 抛光加工 载物台 中转台 粗抛 机箱 精抛 间隔设置 生产加工 自由端 抛光 蜡头 吸附 关节 | ||
1.一种音箱抛光设备,其特征在于,包括:
置物装置,所述置物装置包括间隔设置的载物台及中转台;
多维运动机械装置,所述多维运动机械装置包括多维运动机械手及真空吸附治具,所述多维运动机械手位于所述载物台及所述中转台之间,所述多维运动机械手设置有多个自由转动关节,所述真空吸附治具设置于所述多维运动机械手的自由端上,所述真空吸附治具用于吸附音箱;
打蜡装置,所述打蜡装置设置有挤蜡头,所述挤蜡头用于对音箱进行打蜡操作;及
抛光装置,所述抛光装置包括机箱、粗抛用抛光轮及精抛用抛光轮,所述粗抛用抛光轮及所述精抛用抛光轮分别与所述机箱连接,所述粗抛用抛光轮用于对音箱进行粗抛操作,所述精抛用抛光轮用于对音箱进行精抛操作。
2.根据权利要求1所述的音箱抛光设备,其特征在于,所述打蜡装置包括储蜡件、气压发生器及挤蜡头,所述气压发生器与所述储蜡件连通,所述储蜡件与所述挤蜡头连通,所述气压发生器用于将所述储蜡件内的抛光蜡压入至所述挤蜡头内。
3.根据权利要求2所述的音箱抛光设备,其特征在于,所述挤蜡头开设有出蜡通道,所述气压发生器用于将所述储蜡件内的抛光蜡压入至所述出蜡通道的进蜡端,以使抛光蜡从所述出蜡通道的出蜡端挤出至音箱上。
4.根据权利要求1所述的音箱抛光设备,其特征在于,所述多维运动机械手设置有五个自由转动关节,所述五个自由转动关节具体包括顺序排布在所述多维运动机械手上的第一自由转动关节、第二自由转动关节、第三自由转动关节、第四自由转动关节及第五自由转动关节,所述第一自由转动关节的转动轴心与所述第四自由转动关节的转动轴心相垂直,所述第二自由转动关节、所述第三自由转动关节与所述节第五自由转动关节的转动轴心相互平行,所述第一自由转动关节的转动轴心与所述第二自由转动关节的转动轴心相垂直。
5.根据权利要求1所述的音箱抛光设备,其特征在于,所述载物台上设置有直角初始定位组件,所述直角初始定位组件包括分别位于所述载物台上的竖向挡板及横向挡板,所述竖向挡板与所述横向挡板垂直连接,所述竖向挡板与所述横向挡板垂直连接位置处形成直角初始定位点。
6.根据权利要求1所述的音箱抛光设备,其特征在于,所述机箱上设置有弧形挡板,所述弧形挡板朝向所述粗抛用抛光轮及所述精抛用抛光轮设置。
7.根据权利要求1所述的音箱抛光设备,其特征在于,所述真空吸附治具包括真空吸附板、转接头及真空发生装置,所述真空吸附板内设置有真空腔体,所述真空吸附板的吸附面上开设有多个分别与所述真空腔体连通的真空吸附孔,所述真空吸附板的吸附面用于与音箱表面相贴附,所述真空腔体还与所述真空发生装置连通。
8.一种采用如1-7所述的音箱抛光设备进行的音箱抛光方法,其特征在于,包括如下步骤:
将待抛光音箱放置在载物台上,待抛光音箱的待抛光面预设为首次抛光面及二次抛光面;
控制多维运动机械手的自由端移动到邻近所述载物台的位置处,控制真空吸附治具吸住所述待抛光音箱的所述二次抛光面;
控制多维运动机械手将音箱移动至挤蜡头位置处,并控制挤蜡头向所述待抛光音箱的所述首次抛光面上挤出抛光蜡,以进行首次打蜡操作;
控制多维运动机械手将待抛光音箱的所述首次抛光面移动至粗抛用抛光轮,并进行首次粗抛操作,控制多维运动机械手将待抛光音箱的所述首次抛光面移动至精抛用抛光轮,并进行首次精抛操作,以完成首次抛光操作;
将所述首次抛光操作后的音箱放置在中转台上;
控制多维运动机械手的自由端移动到邻近所述中转台的位置处,控制真空吸附治具吸住所述首次抛光操作后的音箱的所述首次抛光面;
控制多维运动机械手将音箱移动至挤蜡头位置处,并控制挤蜡头向所述待抛光音箱的所述二次抛光面上挤出抛光蜡,以进行二次打蜡操作;
控制多维运动机械手将所述首次抛光操作后的音箱的所述二次抛光面移动至粗抛用抛光轮,并进行粗抛操作;
控制多维运动机械手将所述首次抛光操作后的音箱的所述二次抛光面移动至精抛用抛光轮,并进行精抛操作。
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