[发明专利]一种熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法有效
申请号: | 201811150464.5 | 申请日: | 2018-09-29 |
公开(公告)号: | CN109208046B | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
发明(设计)人: | 席晓丽;张青华;马立文;聂祚仁;秦文轩 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | C25D3/66 | 分类号: | C25D3/66;C25D21/12;C25D17/10 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹;吴欢燕 |
地址: | 100022 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原位 沉积 碳化 复合 涂层 方法 | ||
1.一种熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法,其特征在于,在惰性气体保护下,以钨酸盐体系为熔盐电解质,碳化钨或碳化钨-钴硬质合金为辅助电极,导电镀件为工作电极,加热熔融熔盐电解质后保温,原位电沉积,即得;
其中,所述钨酸盐体系为摩尔比为1:(0.001-0.5)的钨酸盐和熔盐活性物质的混合物,所述钨酸盐为Na2WO4、K2WO4、CaWO4中的一种或多种,所述熔盐活性物质为NaPO3、NaF、KF、WO3、ZnO 、B2O3的一种或多种;所述碳化钨-钴硬质合金中钴的含量小于等于6 wt%;所述电沉积为恒电位跃阶法原位电沉积或恒电流跃阶法原位电沉积,所述恒电位跃阶法原位电沉积的工艺条件为:电位为0.2-2 V,参比电极为金属铂丝,所述恒电流跃阶法原位电沉积的工艺条件为:电流密度为10-150 mA/cm2;所述加热熔融和保温的温度为750-950 ℃。
2.根据权利要求1所述的熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法,其特征在于,所述钨酸盐优选为Na2WO4。
3.根据权利要求1所述的熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法,其特征在于,所述导电镀件为经磨抛处理后的表面粗糙度不大于Ra 1.6且电导率不小于250 S·cm-1的金属镀件。
4.根据权利要求1所述的熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法,其特征在于,所述惰性气体选自氦气、氖气和氩气中的一种。
5.根据权利要求1-4任一项所述的熔盐原位电沉积碳化钨/钨复合涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、将经机械切割和打磨处理后的碳化钨或碳化钨-钴硬质合金依次置于去离子水、丙酮和酒精中超声清洗,烘干备用;
S2、将经机械打磨和表面抛光后的金属镀件置于碱液中浸泡,随后依次置于去离子水、丙酮和酒精中超声清洗,烘干备用;
S3、将经280-350℃下真空干燥脱水12-24 h后的熔盐电解质,在氩气保护气氛下,以恒定的升温速率升温至800-900 ℃,保温2.5-4 h熔盐熔化均匀;
S4、将辅助电极和工作电极置于熔盐中采用恒电位跃阶法原位电沉积,或将辅助电极、工作电极和参比电极置于熔盐中采用恒电流跃阶法原位电沉积,冷却降温后,取出金属镀件并置于碱液中浸泡,烘干即得。
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