[发明专利]一种波导集成式光调制器及其制备方法

权利要求书

1.一种波导集成式光调制器，其特征在于，包括：

内置有纤芯的光波导，所述光波导内开设有凹腔；

覆设在所述凹腔内壁上、且两侧分别与两段所述纤芯相接触的可饱和吸收体，所述可饱和吸收体将所述纤芯分隔为两段；

至少两个设置在所述可饱和吸收体两侧的电极；

设置在所述光波导一侧的电源，所述电源与所述电极电连接。

2.根据权利要求1所述的波导集成式光调制器，其特征在于，

所述可饱和吸收体为具有半导体特性的类金属材料；

所述可饱和吸收体为铋膜、锑膜及碲膜中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的波导集成式光调制器，其特征在于，

所述光波导为侧抛光纤；

所述侧抛光纤上设置有与所述电极相对的管脚。

4.根据权利要求1所述的波导集成式光调制器，其特征在于，

所述可饱和吸收体的厚度范围为10nm～200nm。

5.根据权利要求1所述的波导集成式光调制器，其特征在于，

所述可饱和吸收体外侧设置有封装保护层。

6.根据权利要求5所述的波导集成式光调制器，其特征在于，

所述封装保护层为氟化镁薄膜。

7.根据权利要求1至6任意一项所述的波导集成式光调制器，其特征在于，

所述电极为金膜电极。

8.一种波导集成式光调制器的制备方法，其特征在于，包括：

在光波导上制备对称的金膜电极；

使用物理气相沉积法制作可饱和吸收体，并通过掩膜版将可饱和吸收体生长至光波导上的制定位置，以形成可饱和吸收层，所述可饱和吸收体为铋膜、锑膜及碲膜中的一种或多种；

使用物理沉积法在可饱和吸收层上制作氯化镁薄膜，以在可饱和吸收层上形成封装保护层；

将管脚与电极相固定，并将直流电源与管脚电连接；

所述在光波导上制备对称的金膜电极包括：将光波导及金靶材置于真空室中，将掩膜版置于光波导上，将金靶材表面电离化产生金的等离子体，将金的等离子体沉积在光波导上形成金膜层；金膜沉积到光波导的位置由掩膜版控制，且通过控制金的等离子体的沉降时间控制金膜的厚度。

9.一种脉冲光纤激光机，包括如权利要求1至7任意一项所述的波导集成式光调制器，其特征在于，所述脉冲光纤激光机包括：半导体泵浦激光器；

设置在所述半导体泵浦激光器一侧的光波分复用器；

设置在所述光波分复用器远离所述半导体泵浦激光器一侧的增益光纤；

设置在所述增益光纤远离所述光波分复用器一侧的光学耦合器；

设置在所述光学耦合器远离所述增益光纤一侧的光隔离器；

设置在所述光隔离器远离所述光学耦合器一侧的偏振控制器；

设置在所述偏振控制器远离所述光隔离器一侧的光调制器，所述光调制器远离所述偏振控制器的一侧与所述光波分复用器相连接；

所述半导体泵浦激光器、所述光波分复用器、所述增益光纤、所述光学耦合器、所述偏振控制器及所述光调制器组合形成环形结构。

10.一种脉冲式光学频率梳的产生及调控方法的装置，包括如权利要求1至7任意一项所述的波导集成式光调制器，其特征在于，所述装置还包括：

设置有有源区及波导集成式光调制器的光学微环，用于提供光学谐振并产生光学频率梳；

设置在所述光学微环上的耦合光波导的两端分别用于将泵浦光耦合进入所述光学微环内及将信号光从所述光学微环内输出；

所述有源区用于放大泵浦光，所述波导集成式光调制器用于调制所述光学频率梳，以使所述光学频率梳形成锁模脉冲激光，并通过调控所述光调制器的电源电压，以主动调控可饱和吸收体的可饱和吸收特性，以对所述光学频率梳及锁模脉冲激光进行调控。