[发明专利]一种用于小型复杂曲面零件的浮动抛光装置及方法有效

专利信息
申请号: 201811156379.X 申请日: 2018-09-29
公开(公告)号: CN109249283B 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: 郭江;康仁科;郭东明 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B31/10
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 李晓亮;潘迅
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 磁性介质 抛光装置 复杂曲面零件 浮动装置 容纳单元 浮动 抛光 旋转轴 磁铁 注塑 复杂结构部件 双向旋转运动 非磁性部件 垂直方式 磁力固定 弹性弹簧 电机连接 翻滚动作 放置工件 精密加工 联轴器 盘式 打印 平行 制造
【说明书】:

一种用于小型复杂曲面零件的浮动抛光装置及方法,属于精密加工领域。浮动抛光装置中的旋转轴通过盘式弹性弹簧联轴器与电机连接,旋转轴底部安装浮动装置和一对磁铁;浮动装置放置在容纳单元底表面上,其下方设置另一对磁铁;两对磁体以相互呈平行或垂直方式排列;容纳单元底表面上设有凹槽,磁性介质通过磁力固定在凹槽内,凹槽内放置工件,且工件被磁性介质包裹。由两对磁体提供相反方向的旋转运动在磁性介质内产生双向旋转运动,产生的组合翻滚动作和压力助于磁性介质执行工件所需的抛光任务。本发明结构简单,使用方便,能够用于对小尺寸复杂曲面的非磁性部件进行抛光,特别适用于3D打印以及注塑等方法制造的复杂结构部件。

技术领域

本发明属于精密加工领域,涉及一种用于小型复杂曲面零件的浮动抛光装置及方法。

背景技术

磁场辅助抛光是一种利用磁场将磁性磨料颗粒作用在目标表面上的抛光方法。磁场对磁性介质具有可控性,以适应复杂的表面,实现对常规难以接触到的角落或小的几何形状及复杂结构进行抛光。目前这种方法广泛应用于光学元件、模具、以及电子元器件的制造中。其他用于复杂表面的抛光方法有磨料流抛光,水射流抛光,磁射流抛光,以及使用传统工具进行的手动或自动抛光。但将这些适用于小型复杂表面的先进加工方法用于加工更复杂的表面结构时,会面临一系列限制。尤其是对于3D打印的增减材制造技术加工出的部件,由于其结构非常复杂,因此当采用现有表面抛光方法对其加工出的部件进行抛光时,其部件的几何形状更加难以接近或控制。

发明内容

为了解决复杂曲面的抛光问题,本发明提出一种新的磁场辅助浮动抛光装置及方法,用于对小尺寸复杂曲面的非磁性部件进行抛光,特别适用于3D打印以及注塑等方法制造的复杂结构部件。

为了达到上述目的,本发明采用的技术方案为:

一种用于小型复杂曲面零件的浮动抛光装置,包括旋转轴1、磁体2、磁性介质3、浮动装置4、容纳单元5、盘式弹簧联轴器6。

所述的旋转轴1通过盘式弹簧联轴器6与电机连接,电机提供旋转轴1的旋转动力,旋转轴1底部安装在浮动装置4底表面上,浮动装置4底表面上还设有一对磁体2,浮动装置4底面上的磁体2为上磁体对。所述的浮动装置4放置在容纳单元5底部内表面上,容纳单元5底面上设有环形凹槽。另外一对磁体2设于容纳单元5下方,且该对磁体2与离心式磁性整修机配合,提供该对磁体2的旋转动力,容纳单元5底面下的磁体2为下磁体对。所述的磁性介质3通过磁体2的磁力固定在浮动装置4和容纳单元5之间的环形凹槽内,环形凹槽内放置工件,且工件被磁性介质3包裹,磁性介质3用于执行工件的抛光任务。磁性介质3首先放置在环形凹槽内,使用是,根据所受磁力集中在不同位置。

所述的浮动装置4底面上和容纳单元5底面下的两对磁体2的排列形式为:上磁体对之间连线与下磁体对之间连线的夹角为0°或90°,即当两条线夹角为0°时,两对磁体2以相互平行方式排列;即当两条线夹角为90°时,两对磁体2以相互垂直方式排列。

所述的浮动装置4、容纳单元5形状相同,均为上端开口的圆筒结构,容纳单元5的筒径大于浮动装置4的筒径。

一种用于小型复杂曲面零件的浮动抛光方法,包括以下步骤:

电机向旋转轴1提供旋转运动,盘式弹簧联轴器6利用该旋转运动在旋转轴1上产生振动运动,配置在容纳单元5下方的磁体2通过使用离心式磁性整修机以与电机相反的旋转方向进行旋转。由上、下磁体对所产生的反向旋转运动在磁性介质3内产生双向旋转运动,该双向旋转运动和振动运动组合实现对吸附在旋转轴1底部的磁体2的控制、操纵,并导致存储区内的磁性介质3产生翻滚运动,进而使其浓度状态在两种状态间快速交替,该快速交替产生了助于翻滚机制的介质重整作用。此外,旋转轴1的向下运动将浮动装置4向下推并在磁性介质3内引起压力,产生的组合翻滚动作和压力有助于磁性介质3执行工件所需的抛光任务。

当上、下磁体对以平行方式排列时,产生第一类介质集中状态,此时,磁性介质3集中在两个上下磁体对之间。

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