[发明专利]基于掩模版图形处理的光强分布快速确定方法及装置

权利要求书

1.一种基于掩模版图形处理的光强分布快速确定方法，其特征在于，所述方法包括：

根据光源函数和光瞳函数，建立交叉传递函数；

对所述交叉传递函数进行奇异值分解，得到至少一个频域核函数；

确定掩模版图形划分成的至少一个矩形，以及所述至少一个矩形中每个矩形的特征信息，所述特征信息包括：矩形的长，矩形的宽和矩形中心的坐标；

确定所述每个矩形各自对应的矩形投影系数和所述至少一个频域核函数中每个频域核函数各自对应的核函数投影系数，其中，所述矩形投影系数和所述核函数投影系数是指终端利用数值积分运算将频域上的矩形函数即sinc函数和频域核函数投影到傅里叶贝塞尔基函数得到的投影系数；

根据所述矩形投影系数，所述核函数投影系数和所述每个矩形的特征信息，确定用户指定位置上的光强分布。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定所述每个矩形各自对应的矩形投影系数和所述至少一个频域核函数中每个频域核函数各自对应的核函数投影系数，包括：

根据如下关系式计算所述矩形投影系数

其中，α_ns为所述矩形投影系数，h表示所述矩形的长，w表示所述矩形的宽，J_n表示第一类n阶贝赛尔函数，λ_ns表示第一类n阶贝赛尔函数的第s个零根，f_j和g_j表示频域离散采样点的坐标；

根据如下关系式计算所述每个频域核函数各自对应的核函数投影系数

其中，为所述至少一个频域核函数中第k个频域核函数对应的核函数投影系数，Φ_k(f_j,g_j)表示所述至少一个频域核函数中第k个频域核函数在(f_j,g_j)上的值，J_m表示第一类m阶贝赛尔函数，λ_mt表示第一类m阶贝赛尔函数的第t个零根。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述矩形投影系数，所述核函数投影系数和所述每个矩形的特征信息，确定用户指定位置上的光强分布，包括：

根据如下关系式确定所述用户指定位置上的光强分布

其中，I(x,y)表示用户指定位置(x,y)上的光强分布，α_ns为所述矩形投影系数，为所述至少一个频域核函数中第k个频域核函数对应的核函数投影系数，Δx和Δy表示所述矩形中心的坐标，C_n+m,q(x,y)表示空间域上的n+m阶q零根的正交基函数，γ_n+m,q为基函数乘积投影系数，γ_n+m,q是将傅里叶贝塞尔基函数的乘积投影到傅里叶贝塞尔基函数上得到的投影系数。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述矩形投影系数，所述核函数投影系数和所述每个矩形的特征信息，确定用户指定位置上的光强分布之前，还包括：

根据如下关系式确定所述基函数乘积投影系数

其中，FB_ns(f_j,g_j)表示n阶s零根的傅里叶贝塞尔基函数在(f_j,g_j)上的值，FB_mt(f_j,g_j)表示m阶t零根的傅里叶贝塞尔基函数在(f_j,g_j)上的值，表示n+m阶q零根的傅里叶贝塞尔基函数的共轭函数在(f_j,g_j)上的值。