[发明专利]湿法黑硅制备工艺有效

专利信息
申请号: 201811158844.3 申请日: 2018-09-30
公开(公告)号: CN109537058B 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 刘斌;黄辉巍;陈正飞 申请(专利权)人: 江苏顺风新能源科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;C30B33/10;C30B29/06;H01L31/0236
代理公司: 常州知融专利代理事务所(普通合伙) 32302 代理人: 路接洲
地址: 213000 江苏省常州市武*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 湿法 制备 工艺
【权利要求书】:

1.一种湿法黑硅制备工艺,其特征在于包括以下步骤:

1)将45wt%的氢氧化钠溶液与纯水以体积比1:6-12混合,在温度75-85℃去除硅片表面损伤层,时间200-400S,然后水洗;

2)用A1溶液对上述抛光硅片进行预清洗,温度为20-30℃,时间100-200S,然后水洗;A1溶液由0.5%-5%的聚乙烯吡咯烷酮,0.5%-5%的聚季铵盐,2%-10%柠檬酸混合制成;

3)重复步骤2);

4)用氢氟酸和双氧水以及不含金属的B1混合溶液反应,其中氢氟酸:双氧水:纯水=1:3-6:2-10;B1溶液为0.5%-4%;温度30-40℃,时间180S-300S,最终形成纳米结构,即黑硅,然后水洗;其中,B1溶液由0.5%-5%PEG400,1%-10%PVA混合制成;

5)用45wt%氢氧化钾溶液与纯水以体积比例1:40-80混合,温度20-30℃,清洗上述酸液,时间60-150S;

6)将49%wt的氢氟酸与纯水以体积比例1:40-80混合,温度20-30℃,时间60-150S;

7)用49%wt氢氟酸、66%wt硝酸的混合溶液,将步骤4)所形成的黑硅纳米结构进行扩大化处理,然后水洗,氢氟酸:硝酸:纯水=1:3-5:1-3,温度6-12℃,时间80-150S;

8)用碱性溶液在温度20-30℃下去除上述步骤反应后形成的多孔硅,时间100-200S,然后水洗;

9)用酸性清洗硅片,温度20-30℃,时间100-300S,然后水洗;

10)将上述清洗后硅片,进行烘干处理,流入后道工序。

2.如权利要求1所述的湿法黑硅制备工艺,其特征在于:所述的步骤8) 中的碱性溶液为49%wt氢氧化钾溶液,占纯水比例3%-5%。

3.如权利要求1所述的湿法黑硅制备工艺,其特征在于:所述的步骤9)中酸性溶液为49%wt氢氟酸和36%wt盐酸的混合溶液,与纯水比例1:1-3:1-5。

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