[发明专利]湿法清洗设备

权利要求书

1.一种湿法清洗设备，其特征在于，包括：

旋转台，所述旋转台的表面设有出气口；

多个管脚，所述多个管脚以所述旋转台的中心轴为圆心，沿所述旋转台的上表面圆周设置，且所述旋转台的出气口设置于所述管脚的内侧，在靠近晶圆边缘处的设备部件上设有增加的气流通道；

所述增加的气流通道包括设置于所述管脚上部的至少一个通孔，所述通孔沿所述管脚的径向方向设置。

2.根据权利要求1所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述增加的气流通道包括设置于所述旋转台上的凹陷，所述凹陷靠近所述晶圆的边缘处。

3.根据权利要求2所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述凹陷为环形凹槽或向下的环形斜坡。

4.根据权利要求3所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述环形凹槽为圆弧形凹槽。

5.根据权利要求3所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述环形斜坡的坡度与水平的夹角小于等于45°。

6.根据权利要求1所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述通孔垂直所述管脚的轴线设置，所述通孔的一端为气体进口，另一端为气体出口。

7.根据权利要求6所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述气体进口的直径小于等于三分之二所述管脚的宽度。

8.根据权利要求1所述的湿法清洗设备，其特征在于，当所述通孔为多个时，多个所述通孔水平或竖直并排设置。

9.根据权利要求6所述的湿法清洗设备，其特征在于，多个所述气体进口的直径之和小于等于三分之二所述管脚的宽度。

10.根据权利要求6所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述气体进口的直径大于等于所述气体出口的直径。

11.根据权利要求1所述的湿法清洗设备，其特征在于，还包括喷淋头，所述喷淋头设置于所述旋转台的上方。

12.根据权利要求1所述的湿法清洗设备，其特征在于，气体通过所述出气口喷出，在晶圆与所述旋转台之间形成气流层，使晶圆悬浮。

13.根据权利要求6所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述通孔的气体进口设置于靠近所述中心轴的一侧，所述通孔的气体出口设置于靠近所述旋转台的边缘的一侧。

14.根据权利要求1所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述多个管脚以所述旋转台的中心轴为圆心，沿所述旋转台的表面圆周等距离设置。

15.根据权利要求1所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述出气口为以旋转台中心为圆心的环形出气口，或为以旋转台中心为圆心环形分布的多个出气孔。

16.根据权利要求15所述的湿法清洗设备，其特征在于，所述旋转台的内部设有与所述出气口连接的气体输送管路。

17.根据权利要求16所述的湿法清洗设备，其特征在于，还包括驱动机构，所述驱动机构设置于所述旋转台的下部，用于驱动所述旋转台绕所述中心轴旋转。