[发明专利]背光模组、液晶显示模组以及电子设备有效

专利信息
申请号: 201811161131.2 申请日: 2018-09-30
公开(公告)号: CN109116631B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 凌安恺;沈柏平 申请(专利权)人: 厦门天马微电子有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357
代理公司: 北京允天律师事务所 11697 代理人: 李春晖
地址: 361100 福建*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 背光 模组 液晶显示 以及 电子设备
【权利要求书】:

1.一种背光模组,其特征在于,所述背光模组包括:

基板;

多个LED发光元件,多个所述LED发光元件呈阵列排布,多个所述LED发光元件设置在所述基板的第一表面并与所述基板电性连接;

所述背光模组划分为多个局部调光区域,所述局部调光区域包括至少一个所述LED发光元件,相邻两个所述局部调光区域之间设置有挡墙;

所述挡墙包括沿第一方向延伸的第一挡墙和沿第二方向延伸的第二挡墙,所述第一挡墙的高度与所述第二挡墙的高度不同,和/或,所述第一挡墙的宽度与所述第二挡墙的宽度不同,其中,所述第一方向垂直于所述第二方向。

2.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,所述LED发光元件包括出光顶面以及出光侧面,所述出光顶面背离所述基板;

同一所述LED发光元件,所述出光侧面包括相对的两个第一出光侧面以及相对的两个第二出光侧面,所述第一出光侧面的出光亮度大于所述第二出光侧面的出光亮度,所述第一出光侧面的延伸方向平行于所述第一方向,所述第二出光侧面的延伸方向平行于所述第二方向;

所述第二挡墙的高度小于所述第一挡墙的高度,和/或,所述第二挡墙的宽度小于所述第一挡墙的宽度。

3.根据权利要求2所述的背光模组,其特征在于,设定所述第一挡墙的高度为Hb,设定所述第二挡墙的高度为Ha,0<Ha<Hb≤0.3mm;

和/或,设定所述第一挡墙的宽度为Wb,设定所述第二挡墙的宽度为Wa,0<Wa<Wb≤1.5mm。

4.根据权利要求2所述的背光模组,其特征在于,所述第一挡墙包括多个第一子挡墙以及至少一个第二子挡墙,所述第一子挡墙与所述第二子挡墙在所述第一方向上交替排布,相邻两个所述第一子挡墙通过一第二子挡墙连接,每个所述第一子挡墙在所述第二方向上分别与一个所述LED发光元件相对设置;

设定所述第一子挡墙的高度为H1,设定所述第二子挡墙的高度为H2,0<H2<H1。

5.根据权利要求2所述的背光模组,其特征在于,所述第二挡墙包括多个第三子挡墙以及至少一个第四子挡墙,所述第三子挡墙与所述第四子挡墙在所述第二方向上交替排布,相邻两个所述第三子挡墙通过一第四子挡墙连接,每个所述第三子挡墙在所述第一方向上分别与一个所述LED发光元件相对设置;

设定所述第三子挡墙的高度为H3,设定所述第四子挡墙的高度为H4,0<H4<H3。

6.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,在所述第一方向上,所述第一挡墙的高度不变;

在所述第二方向上,所述第二挡墙的高度不变。

7.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,所述第一挡墙的高度以及所述第二挡墙的高度均不小于所述LED发光元件的高度。

8.根据权利要求7所述的背光模组,其特征在于,所述第一挡墙与所述LED发光元件的高度差、以及所述第二挡墙与所述LED发光元件的高度差均不小于0.2mm。

9.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,所述第一挡墙的侧壁均为吸光面或是反射面,所述第二挡墙的侧壁均为吸光面或是反射面。

10.根据权利要求1所述的背光模组,其特征在于,所述第一挡墙的材料为有机材料或是金属,所述第二挡墙的材料为有机材料或是金属。

11.根据权利要求1-10任一项所述的背光模组,其特征在于,所述第一方向平行于所述阵列的行方向,所述第二方向平行于所述阵列的列方向,位于相邻两行LED发光元件之间的所述第一挡墙为一体结构,位于相邻两列LED发光元件之间的所述第二挡墙为一体结构;

或,所述第一方向平行于所述阵列的列方向,所述第二方向平行于所述阵列的行方向,位于相邻两列LED发光元件之间的所述第一挡墙为一体结构,位于相邻两行LED发光元件之间的所述第二挡墙为一体结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门天马微电子有限公司,未经厦门天马微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811161131.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top