[发明专利]显示用基板母板、显示面板母板及显示面板的制备方法在审
申请号: | 201811161252.7 | 申请日: | 2018-09-30 |
公开(公告)号: | CN109143651A | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 黎敏;熊强;刘超;戴于力;万彬 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对位标记 母板 显示面板 图案 衬底基板 第一表面 基板 保护图案 第二表面 对位 制备 清洗液 透明的 切割 清洗 腐蚀 曝光 覆盖 | ||
1.一种显示用基板母板,其特征在于,包括:设置在衬底基板的第一表面上的第一对位标记图案;
还包括:透明的保护图案,所述保护图案至少覆盖位于所述第一表面边缘的所述第一对位标记图案;
其中,所述第一对位标记图案包括第一子对位标记图案和/或第二子对位标记图案,所述第一子对位标记图案用于在所述衬底基板的第二表面上形成图案的对位曝光,所述第二子对位标记图案用于切割对位;所述第一表面和所述第二表面为所述衬底基板相对的两个表面。
2.根据权利要求1所述的显示用基板母板,其特征在于,所述显示用基板母板划分为多个曝光单元;
其中,各所述曝光单元中的所述保护图案均相同,且所述保护图案至少覆盖位于每个所述曝光单元边缘的所述第一对位标记图案。
3.根据权利要求1所述的显示用基板母板,其特征在于,所述显示用基板母板还包括设置在所述衬底基板的第一表面上的隔垫物,所述隔垫物与所述保护图案同层同材料。
4.根据权利要求3所述的显示用基板母板,其特征在于,所述保护图案的厚度小于所述隔垫物的厚度。
5.根据权利要求1-4任一项所述的显示用基板母板,其特征在于,在所述第一对位标记图案包括所述第一子对位标记图案的情况下,所述显示用基板母板还包括设置在所述衬底基板的所述第二表面上的图案层。
6.根据权利要求5所述的显示用基板母板,其特征在于,所述图案层为触控层。
7.一种显示面板母板,其特征在于,包括如权利要求1-6任一项所述的显示用基板母板;
其中,所述显示用基板母板中衬底基板的第二表面相对第一表面靠近所述显示面板母板的外侧。
8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底基板的第一表面上依次形成第一对位标记图案和透明的保护图案,所述保护图案至少覆盖位于所述第一表面边缘的所述第一对位标记图案,以形成显示用基板母板;其中,所述第一对位标记图案包括第一子对位标记图案和/或第二子对位标记图案,所述第一子对位标记图案用于在所述衬底基板的第二表面上形成图案的对位曝光,所述第二子对位标记图案用于切割对位;所述第一表面和所述第二表面为所述衬底基板相对的两个表面;
形成显示面板母板本体;所述显示面板母板本体包括所述显示用基板母板,所述显示用基板母板中所述衬底基板的第二表面相对第一表面靠近所述显示面板母板本体的外侧;
利用清洗液清洗所述显示面板母板本体中所述衬底基板的第二表面,所述保护图案用于防止所述清洗液腐蚀所述第一对位标记图案;
切割所述显示面板母板本体,以形成显示面板。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第一对位标记图案包括所述第一子对位标记图案的情况下,
在利用清洗液清洗所述显示面板母板本体中所述衬底基板的第二表面之后,切割所述显示面板母板本体之前,所述显示面板的制备方法还包括:
在所述第二表面上形成薄膜,对所述薄膜进行构图形成图案层,以形成显示面板母板;所述构图包括所述第一子对位标记图案与掩模板上的对位标记图案对位后,曝光机进行曝光。
10.根据权利要求8或9所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第一对位标记图案包括所述第二子对位标记图案的情况下,
所述切割所述显示面板母板本体,具体包括:
所述第二子对位标记图案与所述切割机上的对位标记图案对位后,切割机对显示面板母板进行切割。
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