[发明专利]偏光板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201811161397.7 申请日: 2018-09-30
公开(公告)号: CN109212652A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 康志聪 申请(专利权)人: 惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 吴平
地址: 518101 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学补偿膜 折射率 保护膜 凸起结构 偏光板 支撑 显示装置 出光面 入光面 相位补偿膜 视角 相位补偿 预设形状 偏光膜 画质 锐角 申请
【权利要求书】:

1.一种偏光板,其特征在于,包括:

光学补偿膜,所述光学补偿膜具有第一折射率,所述光学补偿膜包括入光面和出光面,且所述出光面上设有多个具有预设形状的凸起结构,所述凸起结构存在至少部分表面为曲面;

支撑保护膜,形成于所述光学补偿膜的出光面,所述支撑保护膜具有第二折射率,所述第一折射率大于所述第二折射率,所述支撑保护膜在与所述光学补偿膜接触的面上开设有多个与所述凸起结构形状、大小均相同的凹槽;

偏光膜,设于所述支撑保护膜上。

2.如权利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述凸起结构为条状结构且所述条状结构的部分表面为圆弧曲面,多个所述条状结构并排设置。

3.如权利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述凸起结构的部分表面为球形曲面,多个所述凸起结构于所述出光面上呈二维矩阵阵列分布。

4.如权利要求2所述的偏光板,其特征在于,所述圆弧曲面的半径小于或等于所述条状结构在第一方向上的高度的两倍;

相邻的所述条状结构的中心距大于或等于所述条状结构在第二方向上的长度、且小于或等于10μm;

其中,以垂直于所述出光面的方向为第一方向,以所述出光面上垂直于所述条状结构的延伸方向的方向为第二方向。

5.如权利要求3所述的偏光板,其特征在于,所述出光面为矩形,所述球形曲面的半径小于或等于所述凸起结构在第一方向上的高度的两倍;

相邻的所述凸起结构的中心距大于或等于所述凸起结构在第二方向上的长度、且小于或等于10μm;

相邻的所述凸起结构的中心距大于或等于所述凸起结构在第三方向上的长度、且小于或等于10μm;

其中,以垂直于所述出光面的方向为第一方向,以所述矩形宽度的延伸方向为第二方向,以所述矩形长度的延伸方向为第三方向,第一方向、第二方向、第三方向三者之间互相垂直。

6.如权利要求1所述的偏光板,其特征在于,所述光学补偿膜为正性单轴A-补偿膜,所述第一折射率为所述A-补偿膜的反常折射率,所述正性单轴A-补偿膜包含向列相液晶分子,所述向列相液晶分子的光轴平行于所述入光面。

7.如权利要求6所述的偏光板,其特征在于,所述偏光膜具有穿透轴,偏振方向平行于所述穿透轴的光线可透过所述偏光膜,所述正性单轴A-补偿膜的光轴与所述穿透轴平行。

8.如权利要求1所述的偏光板,其特征在于,还包括:

相位补偿膜,设于所述偏光膜上,用于对所述偏光膜进行相位补偿。

9.一种偏光板,其特征在于,包括:

光学补偿膜,所述光学补偿膜具有第一折射率,所述光学补偿膜包括入光面和出光面,且所述出光面上设有多个具有预设形状的凸起结构,所述凸起结构存在至少部分表面为球形曲面,所述球形曲面与所述入光面所形成的角度为锐角,所述光学补偿膜为正性单轴A-补偿膜,所述第一折射率为所述正性单轴A-补偿膜的反常折射率,所述正性单轴A-补偿膜包含向列相液晶分子,所述向列相液晶分子的光轴平行于所述入光面;

支撑保护膜,形成于所述光学补偿膜的出光面,所述支撑保护膜具有第二折射率,所述第一折射率大于所述第二折射率,所述支撑保护膜在与所述光学补偿膜接触的面上开设有多个与所述凸起结构形状、大小均相同的凹槽;

偏光膜,设于所述支撑保护膜上。

10.一种显示装置,包括:

背光模组,用于提供光源;

显示面板,置于所述背光模组一侧,用于显示画面;

其特征在于,所述显示面板包括如权利要求1至9任一项所述的偏光板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司,未经惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811161397.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top