[发明专利]偏光结构、显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201811163388.1 申请日: 2018-09-30
公开(公告)号: CN109143677A 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 康志聪 申请(专利权)人: 惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 吴平
地址: 518101 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 介质膜 光学补偿膜 偏光结构 偏光膜 显示面板 显示装置 入光面 折射率 凹槽形状 垂直入射 凸起结构 预设形状 出光面 光能量 夹角为 正视角 锐角 申请 折射 侧面 视角 分配 配合
【权利要求书】:

1.一种偏光结构,其特征在于,所述偏光结构包括:

偏光膜,包括入光面和出光面;

光学补偿膜,所述光学补偿膜形成于所述偏光膜的出光面上;其中,所述光学补偿膜包括第一介质膜和第二介质膜;

所述第一介质膜形成于所述偏光膜的出光面上;所述第二介质膜形成于所述第一介质膜上;

所述第一介质膜的第一折射率小于所述第二介质膜的第二折射率;所述第一介质膜在与所述第二介质膜接触的面上开设有多个具有预设形状的凹槽,所述凹槽的侧面与所述入光面之间的夹角为锐角;所述第二介质膜在与所述第一介质膜接触的面上开设有多个与所述凹槽形状、尺寸相配合的凸起结构。

2.根据权利要求1所述的偏光结构,其特征在于,所述第一介质膜为负性单光轴补偿膜,所述第一折射率为所述负性单光轴补偿膜的正常折射率,所述负性单光轴补偿膜包含碟状液晶分子,所述碟状液晶分子的光轴垂直于所述入光面。

3.根据权利要求1所述的偏光结构,其特征在于,所述第二介质膜为正性单光轴补偿膜,所述第二折射率为所述正性单光轴补偿膜的反常折射率,所述正性单光轴补偿膜包含向列相液晶分子,所述向列相液晶分子的光轴平行于所述入光面。

4.根据权利要求1所述的偏光结构,其特征在于,所述凸起结构为V形条状凸起结构,多个所述V形条状凸起结构之间相互平行。

5.根据权利要求1所述的偏光结构,其特征在于,所述凸起结构为三棱锥凸起结构,多个所述三棱锥凸起结构于所述第二介质膜与所述第一介质膜接触的面上呈二维矩阵阵列分布。

6.根据权利要求4所述的偏光结构,其特征在于,相邻的所述凸起结构在第一方向上的距离大于或等于所述凸起结构在所述第一方向上的长度;其中,以所述第二介质膜与所述第一介质膜接触的面上垂直于所述V形条状凸起结构的延伸方向的方向为第一方向。

7.根据权利要求5所述的偏光结构,其特征在于,所述第二介质膜与所述第一介质膜接触的面为矩形,相邻的所述三棱锥凸起结构在第一方向上的距离大于或等于所述三棱锥凸起结构在所述第一方向上的长度;

相邻的所述三棱锥凸起结构在第二方向上的距离大于或等于所述三棱锥凸起结构在所述第二方向上的长度;其中,以所述矩形宽度的延伸方向为第一方向,以所述矩形长度的延伸方向为第二方向。

8.一种偏光结构,其特征在于,所述的偏光结构包括:

偏光膜,包括入光面和出光面;

光学补偿膜,所述光学补偿膜形成于所述偏光膜的出光面上;其中,所述光学补偿膜包括第一介质膜和第二介质膜;

所述第一介质膜形成于所述偏光膜的出光面上;所述第二介质膜形成于所述第一介质膜上;所述第一介质膜为负性单光轴补偿膜,所述第一折射率为所述负性单光轴补偿膜的正常折射率,所述负性单光轴补偿膜包含碟状液晶分子,所述碟状液晶分子的光轴垂直于所述入光面;

所述第一介质膜的第一折射率小于所述第二介质膜的第二折射率;所述第一介质膜在与所述第二介质膜接触的面上开设有多个具有三棱锥状的凹槽,所述三棱锥状凹槽的侧面与所述入光面之间的夹角为锐角;所述第二介质膜在与所述第一介质膜接触的面上开设有多个与所述三棱锥状凹槽形状、尺寸相配合的三棱锥状凸起结构。

9.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求1-8任一项所述的偏光结构。

10.一种显示装置,包括:

背光模组,用于提供光源;

显示面板,置于所述背光模组上方,用于显示画面;

其特征在于,所述显示面板为权利要求9所述的显示面板。

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