[发明专利]一种微棱镜单体满钻反光线及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201811167515.5 申请日: 2018-10-08
公开(公告)号: CN109322004A 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 许明旗;梁桂德;林玉青;朱庆金;陈建华;陈伟彬;李真真 申请(专利权)人: 福建夜光达科技股份有限公司
主分类号: D01F8/00 分类号: D01F8/00;D01F8/16;D01D5/08;D01D5/253
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 362241 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反光线 微棱镜 反光 制作 生产成本低 胶质 反光特性 纺织机器 记忆效果 生产效率 一体成型 纱线 不变形 织造 包芯 多向 回弹 纺织品 纤维 量化 生产 制造
【权利要求书】:

1.一种微棱镜单体满钻反光线,其特征在于:包括丝线本体,所述丝线本体由胶质层和反光单体一体成型制得,所述胶质层为透明胶质层,所述反光单体悬浮分散于胶质层内;所述反光单体为三棱锥四面体结构,所述反光单体由透明树脂一体成型制得,所述反光单体的三个侧面分别镀设有金属镀层。

2.根据权利要求1所述的微棱镜单体满钻反光线,其特征在于:所述丝线本体的横截面为圆形。

3.根据权利要求2所述的微棱镜单体满钻反光线,其特征在于:所述圆形的直径为0.10mm~2.00mm。

4.根据权利要求1所述的微棱镜单体满钻反光线,其特征在于:所述金属镀层为金属铝层或者金属锌层或者金属铬层或金属银层。

5.根据权利要求1所述的微棱镜单体满钻反光线,其特征在于:所述金属镀层厚度为1um~5um,所述金属镀层的表面光滑度为50nm以下。

6.根据权利要求1所述的微棱镜单体满钻反光线,其特征在于:所述反光单体的角锥顶点至底面的垂直高度为65um~70um。

7.根据权利要求1所述的微棱镜单体满钻反光线,其特征在于:所述反光单体为透明有色单体。

8.一种权利要求1-7任一所述的微棱镜单体满钻反光线的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1、在微间隙精密植锥设备上,通过微棱镜反光环带形模具在载体膜上种植阵列反光单体层,在阵列反光单体层上蒸镀金属镀层,蒸镀完成后,将载体膜置于切削碎化设备上进行阵列反光单体层的脱膜碎化,获得各个独立的反光单体;

步骤2、将反光单体加入于高分子有机胶黏剂中,混合均匀,反光单体悬浮分散于高分子有机胶黏剂中;

步骤3、在抽丝设备上对混有反光单体的高分子有机胶黏剂进行螺杆挤出、纺丝、冷却,获得不断裂连续线的丝线本体,即微棱镜单体满钻反光线。

9.根据权利要求8所述的微棱镜单体满钻反光线的制作方法,其特征在于:所述步骤2中反光单体的加入量为高分子有机胶黏剂质量的3%~9%。

10.根据权利要求8所述的微棱镜单体满钻反光线的制作方法,其特征在于:步骤3中抽丝设备的抽丝时间小于3min,抽丝设备的温控为150℃~180℃。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建夜光达科技股份有限公司,未经福建夜光达科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811167515.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top