[发明专利]加氢气化半焦制浆装置及其稳定运行方法在审

专利信息
申请号: 201811171605.1 申请日: 2018-10-09
公开(公告)号: CN110354741A 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 冯浩;李美喜;李维;张刚;王凤彬;王银明 申请(专利权)人: 新能能源有限公司
主分类号: B01F13/10 分类号: B01F13/10;B01F7/18;C10B55/00;C10L3/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 014300 内蒙古自治*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 半焦 文丘里混合器 制浆搅拌 新鲜水 加氢气化 气力输送 稳定运行 制浆装置 打湿 气力输送装置 搅拌制浆 制浆效果 调浆罐 罐液面 水中 制浆 新鲜
【权利要求书】:

1.加氢气化半焦制浆装置,其特征在于,其包括制浆搅拌罐,所述制浆搅拌罐的进料口处设有文丘里混合器,所述文丘里混合器的一个进口与气力输送装置的出口连接,所述文丘里混合器的另一个进口与新鲜水管网之间通过新鲜水泵连接,所述制浆搅拌罐的出口通过半焦浆泵与调浆罐的进口连接,所述调浆罐的出口分别与所述制浆搅拌罐的回流口、水煤浆气化原料管道的进口连接;所述文丘里混合器的出口置于所述制浆搅拌罐的液面下方,所述调浆罐的出口至所述回流口之间的管路上设有回流控制阀,所述水煤浆气化原料管道上设有输送控制阀;所述调浆罐与所述制浆搅拌罐的体积比大于等于2:1;

所述制浆搅拌罐的顶部设有半焦处理腔,所述半焦处理腔的底部与所述制浆搅拌罐的顶部连接,所述半焦处理腔的顶部设有排空管,所述半焦处理腔内交错设有至少两个优弧弓形的塔盘,所述塔盘的弦长边关于所述半焦处理腔的竖直中心线对称,所述塔盘的圆弧边与所述半焦处理腔的内侧壁固定连接,所述塔盘上均布有通孔,最上层所述塔盘上方的所述半焦处理腔与所述新鲜水管网通过逆流管连接。

2.根据权利要求1所述的加氢气化半焦制浆装置,其特征在于,所述气力输送装置包括半焦输送管和压缩空气源,所述半焦输送管的进口与半焦仓之间通过旋转给料阀连接,所述半焦输送管的出口与所述文丘里混合器的一个进口连接,所述半焦输送管与所述压缩空气源之间通过压缩空气管连接;所述半焦仓的进口与半焦螺旋输送机的出口连接,所述半焦螺旋输送机的进口与半焦磨机的合格品出口连接。

3.根据权利要求1或2任一所述的加氢气化半焦制浆装置,其特征在于,所述塔盘水平设置,所述塔盘数量为4-6个,相邻的两层塔盘之间设有降液管,所述降液管的进口侧与上层所述塔盘和所述半焦处理腔内壁之间形成的空隙连接,所述降液管的进口置于上层所述塔盘的上方,所述降液管的底部与下层所述塔盘连接,所述降液管的出口置于下层所述塔盘的上方。

4.根据权利要求1所述的加氢气化半焦制浆装置,其特征在于,所述排空管下方的所述半焦处理腔内设有除沫器,所述除沫器的边沿与所述半焦处理腔的内侧壁固定连接。

5.根据权利要求1所述的加氢气化半焦制浆装置,其特征在于,所述制浆搅拌罐内设有制浆搅拌器,所述制浆搅拌器的转动轴顶部穿过所述制浆搅拌罐顶部与制浆转动电机的输出轴固定连接;所述调浆罐内设有调浆搅拌器,所述调浆搅拌器的转动轴顶部穿过所述调浆罐顶部与调浆转动电机的输出轴固定连接。

6.加氢气化半焦制浆装置稳定运行方法,其特征在于,半焦经气力输送至文丘里混合器内与输送至所述文丘里混合器内的工业新鲜水进行混合,得到预制浆;所述预制浆进入制浆搅拌罐内进行搅拌,搅拌速度为30-50r/min;在搅拌的过程中,向半焦处理腔内通入工业新鲜水,工业新鲜水沿着塔盘上表面流动,在所述塔盘上表面形成一层水膜,部分未与所述制浆搅拌罐内的工业新鲜水混合成浆的半焦随着气力输送的压缩气进入所述半焦处理腔内,半焦经由所述塔盘的通孔向上运动与所述塔盘上的水膜接触,并随着所述塔盘上表面流动的工业新鲜水回流至所述制浆搅拌罐内,搅拌得到的半焦浆料;所述半焦浆料由半焦浆泵泵入调浆罐内,在所述调浆罐内对所述半焦浆料进行搅拌,得到合格半焦浆,所述合格半焦浆的浓度为30%-35%;所述合格半焦浆一部分回流至所述制浆搅拌罐内以维持所述制浆搅拌罐内的液位为所述制浆搅拌罐体积的60-80%,其余所述合格半焦浆输送至水煤浆气化系统。

7.根据权利要求6所述的加氢气化半焦制浆装置稳定运行方法,其特征在于,所述气力输送的压力为0.5-0.7MPa,所述制浆搅拌罐运行压力为0.1-0.2MPa。

8.根据权利要求6所述的加氢气化半焦制浆装置稳定运行方法,其特征在于,经所述气力输送的半焦与通入所述文丘里混合器内的工业新鲜水的质量比为1:0.8-1.2,经所述气力输送的半焦与通入所述半焦处理腔内的工业新鲜水的质量比为1:0.8-1.2。

9.根据权利要求6所述的加氢气化半焦制浆装置稳定运行方法,其特征在于,进入所述半焦处理腔内的所述压缩气经除沫处理后,由所述半焦处理腔顶部的排空管排出。

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