[发明专利]一种量子点彩色滤光片基板及其制备方法和显示装置

说明书

本发明公开了一种量子点彩色滤光片基板及其制备方法和显示装置，涉及显示器件技术领域，用以解决现有的QDCF基板中的红绿量子点墨水材料在制备后直接暴露于生产环境中，在后期工艺中影响量子点像素光学效率的问题。本发明实施例包括衬底；形成于衬底上的黑矩阵层，其中所述黑矩阵层有多个红色子像素层开口和绿色子像素层开口；填充于红色子像素层开口内的红色量子点和填充于绿色子像素层开口内红色量子点；覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧的水氧阻隔防溶剂层。由于本发明在子像素层之上覆盖有水氧阻隔防溶剂层，使得红绿量子点墨水材料在制备后不会直接暴露于生产环境中，降低了后期工艺对量子点像素光学效率的影响。

技术领域

本发明涉及显示器件技术领域，特别涉及一种量子点彩色滤光片基板及其制备方法和显示装置。

背景技术

一般OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电致发光器件)显示器件的生命周期易受周围水汽与氧气所影响而降低。水汽来源主要分为两种：一是经由外在环境渗透进入组件内，另一种是在OLED工艺中被每一层物质所吸收的水汽，这些水汽导致电子与显示器件中部分很容易发生氧化反应而出现老化从而影响器件的寿命。QDCF(Quantum dotcolor filter，量子点彩色滤光片)基板需要对量子点像素进行封装，如果没有水氧阻隔保护层，封装层的材料势必会影响QDCF量子点像素的光学效率，需要重新进行封装层材料的选取。另由于QDCF中量子点的光散射作用，造成量子点散射的光很大一部分返回至激发光源部分。因此，为了阻隔水氧对器件的影响，需要一个防水氧的阻隔结构。

传统的水氧阻隔层主要为有机无机复合层结构，其通过蒸镀或磁控溅射在有机层表面制备无机氧化物层，得到核心水氧阻隔层，通过调整不同的薄膜沉积参数，便可以使得薄膜以不同结构、不同膜生长模式进行生长，再进行多层复合。膜片中前一个膜层的水汽通路和后面的水汽通路失配，便可以得到薄膜的水氧阻隔性。由于采用有机无机复合的多层结构形式，其制备主要为不间断的涂层制备，制备好的涂层如果进行QDCF基板的复合保护，需要涂胶、贴合两个步骤，并且制备的QDCF基板保护层容易出现褶皱，造成QD-OLED器件制备良率降低。而且此种制备形式，主要是采用磁控溅射或蒸镀的形式进行，设备需要的真空度及其他条件比较苛刻，非封闭的面板产线一般不能满足需求，即使满足需求，由于块状基板行进过程中，必然造成间隔出现大量的溅射或蒸镀的浪费，同时上述水氧阻隔膜的技术方案不能在自动化QDCF喷墨产线上进行实施。

综上所述，由于QDCF基板中的红绿量子点墨水材料在制备后直接暴露于生产环境中，在后期工艺中影响量子点像素光学效率。

发明内容

本发明提供一种量子点彩色滤光片基板及其制备方法和显示装置，用以解决现有技术中存在的QDCF基板中的红绿量子点墨水材料在制备后直接暴露于生产环境中，在后期工艺中影响量子点像素光学效率的问题。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

第一方面，本发明实施例提供的一种量子点彩色滤光片QDCF基板，该基板包括：

衬底；

形成于衬底上的黑矩阵层，其中所述黑矩阵层有多个红色子像素层开口和绿色子像素层开口；

填充于红色子像素层开口内的红色量子点和填充于绿色子像素层开口内红色量子点；

覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧的水氧阻隔防溶剂层。