[发明专利]核壳结构纳米晶的制备方法在审
申请号: | 201811173589.X | 申请日: | 2018-10-09 |
公开(公告)号: | CN111019634A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 程陆玲;杨一行 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | C09K11/02 | 分类号: | C09K11/02;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 黄志云 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 结构 纳米 制备 方法 | ||
1.一种核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供量子点核,将所述量子点核分散在含有有机羧酸的溶液中加热;
在所述量子点核表面进行N次壳层生长,制备N层壳层,得到核壳结构纳米晶,用于所述壳生长的壳源包括壳源阳离子前驱体和壳源阴离子前驱体;在不同次序的M次相邻壳层生长步骤之间,向已形成前一壳层的壳层生长反应体系中加入有机羧酸进行混合并加热后,再进行后一壳层的生长;其中,N为大于等于2的正整数;M为正整数,且M的取值满足:N/3≤M≤N-1;
将所述核壳结构纳米晶分散在含有第二有机膦的溶液中加热。
2.如权利要求1所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,将所述量子点核分散在含有有机羧酸的溶液中加热的步骤中,按照所述量子点核与所述有机酸试剂的质量摩尔比为10mg:(3~10mmol)的,将所述量子点核分散在含有有机羧酸的溶液中。
3.如权利要求2所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,将所述量子点核分散在含有有机羧酸的溶液中加热的步骤中,在温度为80-150℃的条件下加热20-60min。
4.如权利要求1所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,将所述核壳结构纳米晶分散在含有第二有机膦的溶液中加热的步骤中,按照所述第二有机膦与所述核壳结构纳米晶的摩尔质量比为(2~5mmol):10mg,将核壳结构纳米晶分散在含有第二有机膦的溶液中。
5.如权利要求4所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,将所述核壳结构纳米晶分散在含有第二有机膦的溶液中加热的步骤中,将所述核壳结构纳米晶分散在含有有机膦的溶液中,在温度为100-320℃的条件下加热10-60min。
6.如权利要求1所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,M=N-1。
7.如权利要求1所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,在所述的不同次序的M次相邻壳层生长步骤之间,包括在不同次序的L次的相邻壳层生长步骤之间,向已形成前一壳层的壳层生长反应体系中加入有机羧酸和第一有机膦进行混合并加热后,再进行后一壳层的生长,其中,L为正整数,且L≤M。
8.如权利要求7所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,L=M=N-1。
9.如权利要求1所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,当M<N-1时,还包括在不同次序的S次相邻壳层生长步骤之间,向已形成前一壳层的壳层生长反应体系中加入第一有机膦进行混合并加热处理后,再进行后一壳层的生长的步骤,其中,所述S次相邻壳层生长步骤之间是指未向已形成前一壳层的壳层生长反应体系中加入有机羧酸或有机羧酸和第一有机膦进行混合并加热处理的相邻壳层生长步骤之间,所述S为正整数,且1≤S≤(N-1)-M。
10.如权利要求1、7或9任一项所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,所述第二有机膦选自三辛基膦、三丁基膦中的至少一种;和/或
所述第一有机膦选自三辛基膦、三丁基膦中的至少一种。
11.如权利要求1-6任一项所述的核壳结构纳米晶的制备方法,其特征在于,制备的N层壳层中,每一层壳层厚度为0.1-2nm,N的取值范围为6-18。
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