[发明专利]一种基于溶剂蒸发的微米级凹坑生成方法有效
| 申请号： | 201811175123.3 | 申请日： | 2018-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN109319725B | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 王玉亮;曾炳霖 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | B81B1/00 | 分类号： | B81B1/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 溶剂 蒸发 微米 级凹坑 生成 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于溶剂蒸发的微米级凹坑的批量制备方法，其特征在于，首先取一滴包含甲苯、丙酮、水以及聚苯乙烯的悬浊液(2)滴到基底(1)上；由于丙酮、甲苯和水具有不同的蒸发速率，丙酮会率先蒸发完毕，丙酮蒸发后，所述悬浊液(2)中的水会以微米级水滴(3)的形式在所述基底(1)表面生成，同时所述悬浊液(2)中的聚苯乙烯会溶解到甲苯中，形成甲苯-聚苯乙烯混合溶液(4)；此时甲苯会先于水蒸发完毕，甲苯蒸发过程中，聚苯乙烯会析出在所述基底(1)表面生成聚苯乙烯薄膜(5)，而所述微米级水滴(3)则会作为模板辅助生成微米级凹坑(6)；待所述微米级水滴(3)蒸发完毕之后，将会在所述聚苯乙烯薄膜(5)表面得到众多所述微米级凹坑(6)。
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