[发明专利]精密角位移测量系统

权利要求书

1.一种精密角位移测量系统，其特征在于：包括若干独立设置的电磁测头、信号处理电路、控制器、通信器及上位机；各所述电磁测头分别与信号处理电路相连，所述信号处理电路与控制器相连，所述控制器通过通信器与上位机相通信；至少两个所述电磁测头作为上层测头围绕分布于转子齿轮的外圆相对一侧，同时至少两个所述电磁测头作为下层测头也围绕分布于转子齿轮的外圆相对一侧，且所述下层测头错位设置于上层测头的下方。

2.根据权利要求1所述的精密角位移测量系统，其特征在于：所述电磁测头包括导磁基体和线圈，所述导磁基体为弧形结构且其凹面上设置若干指向弧形结构中心的测头齿，相邻所述测头齿之间形成齿槽；所述线圈包括激励线圈和感应线圈并分层绕制在测头齿上。

3.根据权利要求2所述的精密角位移测量系统，其特征在于：所述导磁基体的外轮廓加工弧度与转子齿轮的齿顶圆弧度一致。

4.根据权利要求2所述的精密角位移测量系统，其特征在于：每一所述导磁基体上的测头齿数量为4k，其中k为正整数；所述测头齿的齿面弧度与转子齿轮的齿顶圆弧度一致，测头齿的齿宽与转子齿轮分度圆上的宽度相同，所述齿槽的宽度为(i+1/2)倍于测头齿的齿宽，其中i为正整数。

5.根据权利要求2所述的精密角位移测量系统，其特征在于：所述测头齿上由内至外绕制有三层绕组，其中第一层绕组和第二层绕组均为激励线圈，第三层绕组为感应线圈，三层绕组的总匝数为300j，其中j为转子齿轮的模数；感应线圈的匝数为激励线圈的匝数的2倍。

6.根据权利要求5所述的精密角位移测量系统，其特征在于：三层绕组上的线圈采用多匝线圈正反绕法，且第一层绕组和第二层绕组之间错开1/2个空间周期。

7.根据权利要求2所述的精密角位移测量系统，其特征在于：所述导磁基体采用坡莫合金制成。

8.根据权利要求1至7任一项所述的精密角位移测量系统，其特征在于：所述上层测头沿圆周方向均匀分布。

9.根据权利要求8所述的精密角位移测量系统，其特征在于：所述下层测头沿圆周方向均匀分布，且下层测头与对应的上层测头之间错开一个测头齿的宽度。

10.根据权利要求1至7任一项所述的精密角位移测量系统，其特征在于：所述控制器内置有误差修正处理模块，所述误差修正处理模块通过对各电磁测头的测量数据进行数字量相加取均值的方式进行误差修正处理。