[发明专利]一种液晶显示面板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811177846.7 申请日: 2018-10-10
公开(公告)号: CN109270746A 公开(公告)日: 2019-01-25
发明(设计)人: 叶岩溪 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1362
代理公司: 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 代理人: 潘中毅;熊贤卿
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 第二金属层 制备 导通 绝缘层 第一金属层 电性连接 阵列基板 材料层 导电球 液晶显示面板 公共电极 上方区域 金属 彩膜基板 反光问题 雾化处理 覆盖
【权利要求书】:

1.一种液晶显示面板的制备方法,其特征在于,包括下述步骤:

在阵列基板上制备与第一金属层,所述第一金属层包含有与所述阵列基板电性连接导通垫;

在所述第一金属层上制备绝缘层;

在所述绝缘层上形成第一过孔,且所述第一过孔位于所述导通垫的上方;

在所述绝缘层上制备第二金属层,所述第二金属层通过所述第一过孔与所述导通垫电性连接;

在所述绝缘层上制备BPS材料层,所述BPS材料层覆盖所述第二金属层,且在所述BPS材料层上形成第二过孔,所述第二过孔位于所述第二金属层的上方;

在所述第二金属层上制备导电球,且将固定有公共电极的彩膜基板与所述阵列基板对组成盒,使得所述导电球与所述公共电极电性连接;

所述液晶显示面板的制备方法,还包括下述步骤:

对所述导通垫或者所述导通垫上方区域的金属做雾化处理,所述导通垫上方区域的金属包含有所述第二金属层和所述导电球。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制备方法,其特征在于,对所述导通垫或者所述导通垫上方区域的金属做雾化处理,包括下述步骤:

在所述导通垫的上表面上形成多个均匀分布的凹坑。

3.根据权利要求2所述的液晶显示面板的制备方法,其特征在于,所述凹坑为半球形,且所述凹坑的直径小于1.5微米。

4.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制备方法,其特征在于,对所述导通垫或者所述导通垫上方区域的金属做雾化处理,包括下述步骤:

在所述BPS材料层上形成第二过孔时,还在所述第二金属层上形成多个BPS材料柱状体,所述多个BPS材料柱状体均匀分布且均位于所述导通垫的上方。

5.根据权利要求4所述的液晶显示面板的制备方法,其特征在于,所述BPS材料柱状体横截面为圆形或者规则多边形。

6.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第二金属层上制备导电球,包括下述步骤:

通过打点的方式在所述第二金属层上制备所述导电球。

7.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制备方法,其特征在于,对所述导通垫或者所述导通垫上方区域的金属做雾化处理,包括下述步骤:

在所述导通垫的上表面上通过增加雾化颗粒的方式进行雾化处理,或者通过打点的方式在所述第二金属层上制备所述导电球时,在导电球材料中添加雾化颗粒。

8.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:阵列基板、位于所述阵列基板上的第一金属层、位于所述第一金属层上的绝缘层,以及彩膜基板和固定在所述彩膜基板上的公共电极;其中,所述第一金属层包含有与所述阵列基板电性连接的导通垫;

所述绝缘层上形成有第一过孔,且所述第一过孔位于所述导通垫的上方;

所述绝缘层上还制备有第二金属层和BPS材料层,且所述第二金属层通过所述第一过孔与所述导通垫电性连接,所述BPS材料层上形成有第二过孔,所述第二过孔位于所述第二金属层的上方;

所述第二金属层上制备有导电球,所述彩膜基板位于所述BPS材料层的上方,所述公共电极与所述导电球电性连接,且所述公共电极与所述BPS材料层之间填充有液晶;

其中,所述导通垫或者所述导通垫上方区域的金属经过雾化处理,所述导通垫上方区域的金属包含有所述第二金属层和所述导电球。

9.根据权利要求8所述的液晶显示面板,其特征在于,所述导通垫的上表面上形成有多个均匀分布的凹坑,或者所述导通垫的上表面形成有雾化颗粒,又或者所述导电球上形成有雾化颗粒。

10.根据权利要求8所述的液晶显示面板,其特征在于,所述第二金属层上形成有多个BPS材料柱状体,所述多个BPS材料柱状体均匀分布且均位于所述导通垫的上方。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811177846.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top