[发明专利]含金属的CHA型沸石和其制造方法

权利要求书

1.一种含金属的CHA型沸石，其特征在于，其至少具有下表的XRD峰，在IR光谱中，3685cm^-1以上且3750cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度相对于1800cm^-1以上且1930cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度之比低于1.5，[表1]

※相对强度为相对于2θ＝9.44°～9.88°的峰强度的强度。

2.根据权利要求1所述的含金属的CHA型沸石，其中，在IR光谱中，3450cm^-1以上且3545cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度相对于1800cm^-1以上且1930cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度之比低于1.6。

3.根据权利要求1或2所述的含金属的CHA型沸石，其中，在IR光谱中，3550cm^-1以上且3680cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度相对于1800cm^-1以上且1930cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度之比低于7.0。

4.根据权利要求1或2所述的含金属的CHA型沸石，其中，二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比为10.0以上且55.0以下。

5.根据权利要求1或2所述的含金属的CHA型沸石，其中，二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比为10.0以上且31.5以下。

6.根据权利要求1或2所述的含金属的CHA型沸石，其中，所述金属为铁或铜中的至少任意一者。

7.根据权利要求1或2所述的含金属的CHA型沸石，其中，铜相对于铝的摩尔比为0.10以上且0.50以下。

8.一种权利要求1至7中任一项所述的含金属的CHA型沸石的制造方法，其特征在于，具备将金属源与CHA型沸石进行混合的含金属的工序，所述CHA型沸石的IR光谱中的3665cm^-1以上且3750cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度相对于1800cm^-1以上且1930cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度的强度比低于1.5。

9.根据权利要求8所述的制造方法，其中，所述CHA型沸石的3450cm^-1以上且3545cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度相对于1800cm^-1以上且1930cm^-1以下的范围中的吸收峰的最大强度之比低于1.6。

10.根据权利要求8或9所述的制造方法，其中，所述CHA型沸石在其XRD谱图中至少具有下表所示的XRD峰，

[表2]

※相对强度为相对于2θ＝9.44°～9.88°的峰强度的强度。

11.根据权利要求8或9所述的制造方法，其中，所述CHA型沸石的二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比为10.0以上且55.0以下。

12.根据权利要求8或9所述的制造方法，其中，所述CHA型沸石的硅烷醇基相对于硅的摩尔比为0.15×10^-2以上且1.80×10^-2以下。

13.一种催化剂，其包含权利要求1至7中任一项所述的含金属的CHA型沸石。

14.一种氮氧化物的还原方法，其特征在于，使用权利要求1至7中任一项所述的含金属的CHA型沸石。