[发明专利]一种产生多束太赫兹波的光学参量发生器有效

专利信息
申请号: 201811184858.2 申请日: 2018-10-11
公开(公告)号: CN109143720B 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 李忠洋;袁保合;邓荣鑫;张红涛;谭联;李永军;袁斌;袁胜;邴丕彬;周玉 申请(专利权)人: 华北水利水电大学
主分类号: G02F1/35 分类号: G02F1/35;G02F1/39;H01S1/00
代理公司: 郑州中原专利事务所有限公司 41109 代理人: 王晓丽
地址: 450000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 产生 多束太 赫兹 光学 参量 发生器
【权利要求书】:

1.一种产生多束太赫兹波的光学参量发生器,其特征在于:包括泵浦源(1)、周期反转GaP晶体(3)、第一反射镜(4)和第二反射镜(5);泵浦源(1)发出的泵浦光(2)沿与X轴负向成45°角且与Y轴负向成45°角的方向垂直入射周期反转GaP晶体(3),在周期反转GaP晶体(3)中传播一段距离后在周期反转GaP晶体(3)的Y-Z平面上全反射,然后入射至周期反转GaP晶体(3)的X-Z平面发生全反射,再从周期反转GaP晶体(3)的表面垂直出射,从周期反转GaP晶体(3)出射的泵浦光(2)经第一反射镜(4)和第二反射镜(5)发生全反射,形成泵浦光(2)的第一个循环周期;

经第二反射镜(5)全反射后的泵浦光(2)沿与X轴负向成45°角且与Y轴负向成45°角方向再次垂直入射周期反转GaP晶体(3),在周期反转GaP晶体(3)中传播一段距离后在周期反转GaP晶体(3)的Y-Z平面上全反射,然后入射至周期反转GaP晶体(3)的X-Z平面发生全反射,再从周期反转GaP晶体(3)的表面垂直出射,从周期反转GaP晶体(3)出射的泵浦光(2)经第一反射镜(4)和第二反射镜(5)发生全反射,形成泵浦光(2)的第二个循环周期;

以此类推,泵浦光(2)可以在周期反转GaP晶体(3)和第一反射镜(4)、第二反射镜(5)之间循环N个周期,N为正整数,直至泵浦光(2)不在第二反射镜(5)上发生全反射,循环结束;

泵浦光(2)在周期反转GaP晶体(3)的Y-Z平面全反射点附近通过准相位匹配光学参量效应产生Stokes光(8)和第一太赫兹波(6),产生的Stokes光(8)与泵浦光(2)共线传播,产生的第一太赫兹波(6)沿X轴负向垂直于周期反转GaP晶体(3)的Y-Z平面出射,在泵浦光(2)的N个循环周期内,可以产生N束第一太赫兹波(6);

泵浦光(2)在周期反转GaP晶体(3)的X-Z平面全反射点附近通过准相位匹配光学参量效应产生Stokes光(8)和第二太赫兹波(7),产生的Stokes光(8)与泵浦光(2)共线传播,产生的第二太赫兹波(7)沿Y轴负向垂直于周期反转GaP晶体(3)的X-Z平面出射,在泵浦光(2)的N个循环周期内,可以产生N束第二太赫兹波(7);

光束传播的平面为X轴和Y轴所确定的平面,Z轴垂直于光束传播的平面,泵浦源出射的泵浦光的方向与X轴正向的夹角为135°、与Y轴正向的夹角为135°;

在周期反转GaP晶体(3)的X-Y平面内,沿等腰直角三角形的直角顶点和斜边中点连线将周期反转GaP晶体(3)平均分为两部分,分别为产生第一太赫兹波(6)的部分和产生第二太赫兹波(7)的部分;其中产生第一太赫兹波(6)的部分,晶体周期波矢的方向平行于Y轴,产生第二太赫兹波(7)的部分,晶体周期波矢的方向平行于X轴;周期反转GaP晶体(3)中两部分的晶体反转周期相等。

2.根据权利要求1所述的产生多束太赫兹波的光学参量发生器,其特征在于:第N个周期的泵浦光(2)在Y-Z平面的全反射点在第N-1个周期泵浦光(2)在Y-Z平面的全反射点的上方,第N个周期泵浦光(2)在X-Z平面的全反射点在第N-1个周期泵浦光(2)在X-Z平面的全反射点的右方。

3.根据权利要求1所述的产生多束太赫兹波的光学参量发生器,其特征在于:所述第一反射镜(4)和第二反射镜(5)均为平面镜,第一反射镜(4)平行于Y轴,第二反射镜(5)垂直于Y轴。

4.根据权利要求1所述的产生多束太赫兹波的光学参量发生器,其特征在于:所述第一反射镜(4)和第二反射镜(5)对泵浦光(2)和Stokes光(8)全反射。

5.根据权利要求1所述的产生多束太赫兹波的光学参量发生器,其特征在于:所述周期反转GaP晶体(3)在X-Y平面为等腰直角三角形,且等腰直角三角形的两个直角边分别平行于X轴和Y轴。

6.根据权利要求5所述的产生多束太赫兹波的光学参量发生器,其特征在于:所述等腰直角三角形的直角边边长为2cm,周期反转GaP晶体(3)在Z轴方向的厚度为1cm。

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