[发明专利]使用元表面的傅里叶变换干涉仪

权利要求书

1.一种傅里叶变换干涉仪，包括：

相变板，包括：

反射层，被配置为对入射的第一光进行反射；以及

元表面，布置在所述反射层上，并被配置为局部地且不同地改变被反射的第一光的相位，所述元表面包括具有不同直径的多个相变元件；

光电检测器，被配置为检测第二光；以及

半透半反镜和反射镜，被配置为：

使入射的第三光的第一部分透射到所述相变板；

使所述第三光的剩余部分透射到所述光电检测器；以及

使相位局部地且不同地改变的第一光透射到所述光电检测器，

其中，所述光电检测器还被配置为检测所述第三光的剩余部分与相位局部地且不同地改变的第一光之间的干涉图案。

2.根据权利要求1所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述相变板还包括基板，所述反射层布置在所述基板上。

3.根据权利要求1所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述多个相变元件具有从所述反射层竖直突出的柱状形状。

4.根据权利要求1所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述相变板包括第一元区域和第二元区域，所述第一元区域和所述第二元区域不同地改变被反射的第一光的相位。

5.根据权利要求4所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述相变板包括布置在所述第一元区域中的第一相变元件、以及布置在所述第二元区域中的第二相变元件。

6.根据权利要求5所述的傅里叶变换干涉仪，其中，每个第一相变元件具有第一直径，并且

每个第二相变元件具有不同于第一直径的第二直径。

7.根据权利要求1所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述多个相变元件的不同直径中的每个直径小于待分析光的波长。

8.根据权利要求2所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述多个相变元件的折射率中的每个折射率高于所述基板的折射率。

9.根据权利要求1所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述光电检测器被布置为朝向所述半透半反镜的第一表面，

所述反射镜和所述相变板被布置为朝向所述半透半反镜的与第一表面相对的第二表面，并且

所述半透半反镜被布置为使得所述第三光入射在所述半透半反镜的第一表面上。

10.根据权利要求1所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述半透半反镜被布置为与所述相变板的上表面相对，并且

所述反射镜和所述光电检测器分别布置在所述半透半反镜的两侧上。

11.根据权利要求1所述的傅里叶变换干涉仪，还包括基板，

其中，所述半透半反镜、所述相变板、所述反射镜和所述光电检测器布置在所述基板上。

12.根据权利要求1所述的傅里叶变换干涉仪，还包括光源，所述光源被配置为朝向样本辐射第四光。

13.一种傅里叶变换干涉仪，包括：

半透半反镜，被配置为透射入射的第一光的第一部分，并反射所述第一光的剩余部分；

相变板，被布置为与所述半透半反镜相对，并包括半透半反基板和元表面，所述元表面布置在所述半透半反基板上，并被配置为局部地且不同地改变入射的第二光的相位，并且所述元表面包括具有不同直径的多个相变元件；以及

光电检测器，被配置为检测透过所述相变板的第三光之间的干涉图案。

14.根据权利要求13所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述半透半反基板被配置为透射所述第二光的第二部分，并反射所述第二光的第三部分。

15.根据权利要求13所述的傅里叶变换干涉仪，其中，所述多个相变元件具有从所述半透半反基板竖直突出的柱状形状。