[发明专利]彩膜基板及其制备方法和包含它的量子点显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

黑矩阵，形成于所述衬底基板上、包括多个开口和围设每个开口且限定多个像素区域的堤部，所述堤部包括黑色染料；

彩膜层，形成于所述每个开口内，包括形成于至少部分所述开口区域的彩色量子点材料层；

第一平坦化层，覆盖所述彩膜层，所述堤部露出所述第一平坦化层；

第二平坦化层，覆盖所述第一平坦化层和所述堤部，所述第二平坦化层的相对于所述第一平坦化层的表面中、对应于所述堤部部分的表面距离所述衬底基板的距离小于对应于所述像素区域部分的表面距离所述衬底基板的距离；

光栅层，形成于所述第二平坦化层上；

第三平坦化层，覆盖所述光栅层。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层包括：

设置于红色像素区域的红色量子点材料层和红色有机树脂滤色层，所述红色有机树脂滤色层设置于所述红色量子点材料层与所述衬底基板之间；

设置于绿色像素区域的绿色量子点材料层和绿色有机树脂滤色层，所述绿色有机树脂滤色层设置于所述绿色量子点材料层与所述衬底基板之间；和

设置于蓝色像素区域的蓝色有机树脂滤色层。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一平坦化层包含二氧化硅。

4.一种量子点显示装置，其特征在于，包括权利要求1-3任一所述彩膜基板。

5.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成黑矩阵，所述黑矩阵包括多个开口和围设每个开口、且限定多个像素区域的堤部，所述堤部包括黑色染料；

在所述黑矩阵的各开口内分别形成彩膜层；

形成第一平坦化层，覆盖所述彩膜层，所述堤部露出所述第一平坦化层；

涂覆液态成膜物质固化后形成覆盖所述第一平坦化层和所述堤部的第二平坦化层，所述第二平坦化层的相对于所述第一平坦化层的表面为凹凸结构，其中对应于所述堤部部分的表面距离所述衬底基板的距离小于对应于所述像素区域部分的表面距离所述衬底基板的距离；

在所述第二平坦化层上形成铝箔层；

在所述铝箔层上形成硬掩模层；

对所述硬掩模层进行纳米压印，并电感耦合等离子体刻蚀形成光栅层；及

形成第三平坦化层；

其中所述液态成膜物质与所述堤部之间的接触角大于所述液态成膜物质与所述第一平坦化层之间的接触角。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述液态成膜物质与所述堤部之间的接触角大于所述液态成膜物质与所述第一平坦化层之间的接触角至少50度。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在形成所述第二平坦化层之前，还包括对所述第一平坦化层进行亲水化处理，和/或对所述堤部进行疏水化处理。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述亲水化处理选自湿化学法、紫外辐射法、等离子体法中的一种或多种。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述疏水化处理为等离子体法。

10.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述第一平坦化层包含二氧化硅，所述堤部包含疏水性树脂。

11.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述形成彩膜层包括：

在红色像素区域依次形成红色有机树脂滤色层和红色量子点材料层；

在绿色像素区域依次形成绿色有机树脂滤色层和绿色量子点材料层；以及

在蓝色像素区域形成蓝色有机树脂滤色层。