[发明专利]一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法有效
申请号: | 201811190334.4 | 申请日: | 2018-10-12 |
公开(公告)号: | CN109143437B | 公开(公告)日: | 2021-03-02 |
发明(设计)人: | 相连钦;祝晓勇 | 申请(专利权)人: | 宁波源禄光电有限公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 安丽 |
地址: | 315800 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 机械 切削 离子束 刻蚀 制备 光栅 方法 | ||
1.一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法,其特征在于:包括如下步骤:
步骤一、机械切削出具有高密度刻线并具有小闪耀角的原刻衍射光栅,原刻衍射光栅作为母板衍射光栅,用于复制子板衍射光栅;
步骤二、确定用于复制子板衍射光栅的镀膜材料及膜层厚度;确定离子束在子板衍射光栅表面的入射角,使复制衍射光栅的刻槽槽底圆弧部分得以清除,具有小闪耀角的刻槽轮廓面最宽化;
步骤三、对机械切削的原刻衍射光栅进行子板衍射光栅复制,并在复制子板衍射光栅过程中镀膜,用于离子束刻蚀加工;
步骤四、子板衍射光栅在离子束入射角情况下,进行离子束刻蚀加工,使得复制衍射光栅的刻槽槽底圆弧部分得以清除
所述步骤一中,闪耀角小于8°;
所述步骤一中,原刻衍射光栅的刻槽槽型是呈三角形。
2.根据权利要求1所述的一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法,其特征在于:所述步骤一中,在恒温下,采用刀尖半径优选0.5um~1.5um圆弧形金刚石切削刀进行精密机床机械切削。
3.根据权利要求1所述的一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法,其特征在于:所述步骤一中,高密度刻线优选为500~600线/mm。
4.根据权利要求1所述的一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法,其特征在于:所述步骤一中,原刻衍射光栅的基底为金属镍或不锈钢。
5.根据权利要求1所述的一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法,其特征在于:所述步骤一中,机械切削原刻衍射光栅的表面面型为曲面或平面。
6.根据权利要求1所述的一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法,其特征在于:所述步骤二中,镀膜材料为金属膜Al或介质膜GaAs,膜层厚度为0.35~0.5um。
7.根据权利要求1所述的一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法,其特征在于:所述步骤二中,入射角φ优选为52~62°。
8.根据权利要求1所述的一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法,其特征在于:所述步骤三中,离子束是惰性气体的离子,所述惰性气体的离子包括He、Ar或Kr。
9.根据权利要求8所述的一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法,其特征在于:所述惰性气体的离子中加入CCl2F2或O2气体,进行反应式离子刻蚀。
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