[发明专利]一种有机共晶增益材料及其制备方法和在激光性能中的应用有效

专利信息
申请号: 201811192070.6 申请日: 2018-10-12
公开(公告)号: CN111039859B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 赵永生;褚曼曼;李勇军 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所;中国科学院大学
主分类号: C07D213/74 分类号: C07D213/74;C07C25/13;C07C25/02;C07C63/70;C07C39/27;H01S3/16;H01S3/08
代理公司: 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 代理人: 刘元霞;谢怡婷
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 有机 增益 材料 及其 制备 方法 激光 性能 中的 应用
【权利要求书】:

1.一种有机共晶增益材料,所述有机共晶增益材料由卤键给体和卤键受体组成,其中所述卤键给体和卤键受体通过卤键键合连接;所述卤键为-X···Y-,其中,X为F、Br或I中的一种,Y为N或O中的一种;

所述卤键受体选自式(I’)所示的化合物MPI,

式(I’);

所述卤键给体选自1,4-二碘四氟苯(F4DIB)、1,3,5-三氟-2,4,6-三碘苯(IFB)、1,4-二碘苯、1,2,4,5-四氟-3,6-二溴苯、4-溴-2,3,5,6-四氟苯甲酸,或2,3,4,5,6-五氟苯酚中的一种。

2.根据权利要求1所述的有机共晶增益材料,其中,所述有机共晶增益材料具有微纳结构,所述微纳结构是微米片或微米环。

3.根据权利要求1所述的有机共晶增益材料,其中,所述卤键为-I···Y-,其中,Y为N或O中的一种。

4.根据权利要求1-3任一项所述的有机共晶增益材料,其中,所述有机共晶增益材料中,卤键受体与卤键给体的摩尔比为5:1~1:2。

5.根据权利要求4所述的有机共晶增益材料,其中,所述有机共晶增益材料中,卤键给体和卤键受体在卤键的作用下,以上述摩尔比依次重复排列组成。

6.根据权利要求2所述的有机共晶增益材料,其中,所述微米片的长度为10-40 µm;宽度为5-20 µm;厚度为0.3-1 µm;所述微米环的周长为10-40 µm;直径为0.5-4 µm;高度为0.3-1 µm。

7.根据权利要求6所述的有机共晶增益材料,其中,有机共晶增益材料MPI-F4DIB的微纳结构为微米片,所述微米片的长度为10-40 µm;宽度为5-20 µm;厚度为0.3-1 µm。

8.根据权利要求6所述的有机共晶增益材料,其中,有机共晶增益材料MPI-IFB的微纳结构为微米环,所述微米环的周长为10-40 µm;直径为0.5-4 µm;高度为0.3-1 µm。

9.权利要求1-8任一项所述的有机共晶增益材料的制备方法,所述方法包括如下步骤:

1)将卤键给体和卤键受体溶解于有机溶剂C中,得到双组份的混合体系;

2)将步骤1)制备得到的混合体系滴加在基板上,在反溶剂氛围中,待有机溶剂C挥完全后,得到微纳结构的有机共晶增益材料。

10.根据权利要求9所述的制备方法,其中,所述有机溶剂C选自乙腈。

11.根据权利要求9所述的制备方法,其中,步骤1)中,所述卤键给体在有机溶剂C中的摩尔浓度为1-10 mmol/L;所述卤键受体在有机溶剂C中的摩尔浓度为1-10 mmol/L。

12.根据权利要求9所述的制备方法,其中,步骤1)包括如下步骤:

1-1)将卤键给体和卤键受体分别溶解于有机溶剂C中;

1-2)将上述卤键给体溶液和卤键受体的溶液混合,得到双组份的混合体系;

步骤2)中,反溶剂氛围选自正己烷、乙酸乙酯或乙醇。

13.权利要求1-8任一项所述的有机共晶增益材料的单晶的制备方法,所述方法包括如下步骤:

1)将卤键给体和卤键受体溶解于有机溶剂A中,得到双组份的混合溶液;

2)取步骤1)的混合溶液,加入等体积有机溶剂A和有机溶剂B的混合溶剂,再加入等体积有机溶剂B;

3)将步骤2)制备得到的混合体系置于安静无扰动的黑暗环境中,待有机溶剂A和有机溶剂B挥完全后,得到所述的有机共晶增益材料的单晶。

14.根据权利要求13所述的制备方法,其中,步骤1)中,所述有机溶剂A选自二氯甲烷;步骤2)中,所述有机溶剂B选自正己烷。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院化学研究所;中国科学院大学,未经中国科学院化学研究所;中国科学院大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811192070.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top