[发明专利]一种有机共晶增益材料及其制备方法和在激光性能中的应用有效
申请号: | 201811192070.6 | 申请日: | 2018-10-12 |
公开(公告)号: | CN111039859B | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 赵永生;褚曼曼;李勇军 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所;中国科学院大学 |
主分类号: | C07D213/74 | 分类号: | C07D213/74;C07C25/13;C07C25/02;C07C63/70;C07C39/27;H01S3/16;H01S3/08 |
代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 刘元霞;谢怡婷 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 增益 材料 及其 制备 方法 激光 性能 中的 应用 | ||
1.一种有机共晶增益材料,所述有机共晶增益材料由卤键给体和卤键受体组成,其中所述卤键给体和卤键受体通过卤键键合连接;所述卤键为-X···Y-,其中,X为F、Br或I中的一种,Y为N或O中的一种;
所述卤键受体选自式(I’)所示的化合物MPI,
式(I’);
所述卤键给体选自1,4-二碘四氟苯(F4DIB)、1,3,5-三氟-2,4,6-三碘苯(IFB)、1,4-二碘苯、1,2,4,5-四氟-3,6-二溴苯、4-溴-2,3,5,6-四氟苯甲酸,或2,3,4,5,6-五氟苯酚中的一种。
2.根据权利要求1所述的有机共晶增益材料,其中,所述有机共晶增益材料具有微纳结构,所述微纳结构是微米片或微米环。
3.根据权利要求1所述的有机共晶增益材料,其中,所述卤键为-I···Y-,其中,Y为N或O中的一种。
4.根据权利要求1-3任一项所述的有机共晶增益材料,其中,所述有机共晶增益材料中,卤键受体与卤键给体的摩尔比为5:1~1:2。
5.根据权利要求4所述的有机共晶增益材料,其中,所述有机共晶增益材料中,卤键给体和卤键受体在卤键的作用下,以上述摩尔比依次重复排列组成。
6.根据权利要求2所述的有机共晶增益材料,其中,所述微米片的长度为10-40 µm;宽度为5-20 µm;厚度为0.3-1 µm;所述微米环的周长为10-40 µm;直径为0.5-4 µm;高度为0.3-1 µm。
7.根据权利要求6所述的有机共晶增益材料,其中,有机共晶增益材料MPI-F4DIB的微纳结构为微米片,所述微米片的长度为10-40 µm;宽度为5-20 µm;厚度为0.3-1 µm。
8.根据权利要求6所述的有机共晶增益材料,其中,有机共晶增益材料MPI-IFB的微纳结构为微米环,所述微米环的周长为10-40 µm;直径为0.5-4 µm;高度为0.3-1 µm。
9.权利要求1-8任一项所述的有机共晶增益材料的制备方法,所述方法包括如下步骤:
1)将卤键给体和卤键受体溶解于有机溶剂C中,得到双组份的混合体系;
2)将步骤1)制备得到的混合体系滴加在基板上,在反溶剂氛围中,待有机溶剂C挥完全后,得到微纳结构的有机共晶增益材料。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其中,所述有机溶剂C选自乙腈。
11.根据权利要求9所述的制备方法,其中,步骤1)中,所述卤键给体在有机溶剂C中的摩尔浓度为1-10 mmol/L;所述卤键受体在有机溶剂C中的摩尔浓度为1-10 mmol/L。
12.根据权利要求9所述的制备方法,其中,步骤1)包括如下步骤:
1-1)将卤键给体和卤键受体分别溶解于有机溶剂C中;
1-2)将上述卤键给体溶液和卤键受体的溶液混合,得到双组份的混合体系;
步骤2)中,反溶剂氛围选自正己烷、乙酸乙酯或乙醇。
13.权利要求1-8任一项所述的有机共晶增益材料的单晶的制备方法,所述方法包括如下步骤:
1)将卤键给体和卤键受体溶解于有机溶剂A中,得到双组份的混合溶液;
2)取步骤1)的混合溶液,加入等体积有机溶剂A和有机溶剂B的混合溶剂,再加入等体积有机溶剂B;
3)将步骤2)制备得到的混合体系置于安静无扰动的黑暗环境中,待有机溶剂A和有机溶剂B挥完全后,得到所述的有机共晶增益材料的单晶。
14.根据权利要求13所述的制备方法,其中,步骤1)中,所述有机溶剂A选自二氯甲烷;步骤2)中,所述有机溶剂B选自正己烷。
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