[发明专利]一种边缘封闭式量子点增强膜及其制备方法

权利要求书

1.一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：该量子点增强膜具有多层结构，包括两层外层基膜、两层内层阻隔层和中间量子点层，两层内层阻隔层位于中间量子点层的外侧，两层外层基膜位于两层内层阻隔层的外侧，外层基膜的厚度为50-125μm，内层阻隔层的厚度为0.001-0.5μm，中间量子点层的厚度为50-150μm；其中，量子点层由基质树脂、量子点、量子点稳定剂、散射粒子、引发剂、稀释剂组成。

2.根据权利要求1所述的一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：所述基膜的材质为聚乙烯PE、聚氯乙烯PVC、聚丙烯PP、聚碳酸酯PC、聚邻苯二甲酸乙二醇酯PET、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：所述基质树脂为有机硅树脂、环氧树脂、聚丙烯酰胺、聚氨酯、异氰酸酯、光固化树脂、热固化树脂的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：所述量子点为MgS、CdTe、CdSe、CdS、CdZnS、ZnSe、ZnTe、ZnS、ZnO、GaAs、GaN、GaP、InP、InAs、InN、InSb、AlP、AlSb的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：所述量子点的结构为核壳结构，该核壳结构为量子点中心核结构和外层壳结构，该核壳结构所用的材料均为半导体。

6.根据权利要求1所述的一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：所述量子点稳定剂为甲苯、正己烷、氯仿、丙烯酸异冰片酯的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：所述散射粒子为无机粒子、有机粒子中的至少一种。

8.根据权利要求7所述的一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：所述无机粒子为纳米二氧化硅、纳米二氧化钛、纳米二氧化钙、纳米二氧化锆中的一种或多种；所述有机粒子为有机硅类纳米粒子、丙烯酸类纳米粒子的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：所述引发剂为光引发剂、热引发剂的一种或多种。

10.根据权利要求1所述的一种边缘封闭式量子点增强膜，其特征在于：所述稀释剂为甲苯、丙酮、丁酮、乙腈、乙醇、乙酸、乙酸乙酯、乙酸丁酯、正丁醚的一种或多种。

11.一种边缘封闭式量子点增强膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：量子点溶解于量子点稳定剂中，得量子点溶液，量子点溶液与基质树脂、散射粒子、引发剂和稀释剂混合后，通过狭缝涂布，与上下两层具有阻隔层的基膜贴合，并在光照和热量的作用下，中间量子点层发生固化，从而形成多层结构并缠绕成量子点膜卷材。

12.根据权利要求11的所述一种边缘封闭式量子点增强膜的制备方法，其特征在于：量子点膜卷材在经过裁切和打取定位孔后，进行湿法涂布处理，即将裁切和打孔处理后的量子点膜浸润在涂布液中，随后以一定的速度将浸润后的量子点膜从涂布液中取出；将从涂布液中取出后的量子点膜静置一定时间后，附着在量子点膜表层的涂布液中的溶剂会挥发掉并在表层留下一层透明薄膜，该层薄膜可完全覆盖整块裁切完成的量子点膜；所述的透明薄膜的厚度可以通过控制从涂布液中取出量子点膜的速度来进行调节，厚度范围为20nm-50μm。

13.根据权利要求12的所述一种边缘封闭式量子点增强膜的制备方法，其特征在于：量子点膜可进行单次或多次湿法涂布过程，从而形成多层透明薄膜。