[发明专利]靶材组件的制作方法

权利要求书

1.一种靶材组件的制作方法，其特征在于，包括步骤：

提供二氧化硅靶材和金属背板，所述二氧化硅靶材具有靶材焊接面，所述金属背板具有背板焊接面；

采用等离子喷涂工艺在所述二氧化硅靶材焊接面上形成镍层；

将二氧化硅靶材焊接面上的镍层与金属背板焊接面进行焊接形成靶材组件。

2.如权利要求1所述的靶材组件的制作方法，其特征在于，所述焊接采用真空钎焊工艺。

3.如权利要求2所述的靶材组件的制作方法，其特征在于，所述真空钎焊工艺中真空钎焊温度为800-850℃、升温速率为5.6-6.7℃/min、保温时间为30-35min、真空度10^-3Pa以上。

4.如权利要求1所述的靶材组件的制作方法，其特征在于，所述等离子喷涂工艺中等离子喷涂使用的原料为镍粉，所述镍粉的纯度为99.9％、粒度50-100目、供粉速度为1.5-2g/min、喷涂距离为90-100mm、喷涂速度为850-900mm/s。

5.如权利要求1所述的靶材组件的制作方法，其特征在于，所述等离子喷涂工艺采用的电弧功率为35-40KW、电弧电流为500-600A。

6.如权利要求1所述的靶材组件的制作方法，其特征在于，在对所述靶材焊接面进行等离子喷涂工艺之前还包括步骤：对所述靶材焊接面进行抛光处理。

7.如权利要求1所述的靶材组件的制作方法，其特征在于，在二氧化硅靶材焊接面上的镍层与金属背板焊接面进行焊接之前，还包括步骤：

对所述背板焊接面进行抛光处理，对所述抛光后的金属背板以及形成镍层后的二氧化硅靶材进行清洗并真空干燥。

8.如权利要求7所述的靶材组件的制作方法，其特征在于，所述清洗采用超声波清洗，采用清洗液为异丙醇或酒精，时间为5-10min。

9.如权利要求7所述的靶材组件的制作方法，其特征在于，在真空干燥后，焊接之前，还包括：在所述镍层与所述背板焊接面之间放置焊片。

10.如权利要求9所述的靶材组件的制作方法，其特征在于，所述焊片为AgCuInTi焊片，其中Ag的质量百分数为60-70％、Cu的质量百分数为13.5-23％、In的质量百分数为14-14.5％、Ti的质量百分数为3-3.2％。