[发明专利]一种硅颗粒/石墨烯量子点核壳结构的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811194662.1 申请日: 2018-09-29
公开(公告)号: CN109309221A 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 苗中正;曹嘉宁;高洁 申请(专利权)人: 盐城师范学院
主分类号: H01M4/36 分类号: H01M4/36;H01M4/583;H01M4/62;H01M4/38;H01M10/0525;C01B32/182
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 224000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 硅颗粒 石墨烯 量子点 核壳结构 褶皱 氧化石墨烯 包覆层 制备 氧化石墨烯溶液 超声分散 合成步骤 剩余溶剂 体积膨胀 自然晾干 充放电 对设备 耗能 缓冲 交叠 隆起 片层 加热 还原 扭曲 压缩
【权利要求书】:

1.一种硅颗粒/石墨烯量子点核壳结构的制备方法,包括如下步骤:

(1)将硅颗粒加入到氧化石墨烯量子点/尺寸接近石墨烯量子点的小片层氧化石墨烯溶液中,超声分散均匀后,继续搅拌处理,得到硅颗粒/氧化石墨烯核壳结构;

(2)将硅颗粒/氧化石墨烯核壳结构自然晾干,加热清除剩余溶剂,形成硅颗粒/褶皱氧化石墨烯结构,使用氢碘酸溶液还原氧化石墨烯,用乙醇清洗后得到硅颗粒/石墨烯量子点核壳结构。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的硅颗粒与氧化石墨烯量子点/尺寸接近石墨烯量子点的小片层氧化石墨烯的质量比为0.1-10。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的石墨烯量子点尺寸在40-100nm内,其边缘及表面修饰有含氧基团,通过控制用于制备石墨烯量子点的石墨纳米颗粒尺寸,以及对制备得到的石墨烯量子点溶液调控pH离心处理,去除掉溶液中尺寸过小的石墨烯量子点。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的尺寸接近石墨烯量子点的小片层石墨烯尺寸在100-200nm。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的超声分散时间为0.5-2h,搅拌处理时间为1-12h。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中的加热温度为70℃,持续4-12h。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中的氢碘酸溶液浓度为10-30%,还原时间为0.5-6h。

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