[发明专利]光刻机的焦距监控光罩及方法

权利要求书

1.一种光刻机的焦距监控光罩，其特征在于，包括：

多个第一种图形结构，具有能使光线直线穿过的平面式结构；

多个第二种图形结构，由平面式结构和楔型结构叠加而成，所述第二种图形结构的平面式结构和所述第一种图形结构的平面式结构相同；

所述第二种图形结构的所述楔型结构的底部表面覆盖所述平面式结构的顶部表面，所述楔型结构能使光线方向和光程改变；

多个所述第一种图形结构和所述第二种图形结构的平面式结构在焦距监控光罩排列成阵列结构；在对应的所述平面式结构上设置所述楔型结构形成所述第二种图形结构的阵列结构；

光刻机的焦距由通过所述第一种图形结构曝光形成的第一种曝光图形和由所述第二种图形结构曝光形成的第二种曝光图形的叠加图形的套准进行测量得到，所述楔型结构对光线方向的改变使所述焦距的纵向变化转移到横向上，通过对所述叠加图形在横向上的套准计算得到所述焦距；

所有所述第二种图形结构的楔型结构的楔型方向设置相同，使得用于焦距测量的所述叠加图形的数量增加以及分布位置增加，提高对所述焦距的模拟计算的精确性。

2.如权利要求1所述的光刻机的焦距监控光罩，其特征在于：所述楔型结构的顶部表面的第一顶点位于底部表面上，第二顶点和第三顶点的高度相同且位于所述第一顶点的两侧，第四顶点的高度最大且位于所述第一顶点的对角线上，所述第一顶点和所述第四顶点的连线方向为所述楔型结构的楔型方向。

3.如权利要求2所述的光刻机的焦距监控光罩，其特征在于：所述楔型结构的侧面包括两个直角三角形和两个直角梯形。

4.如权利要求2所述的光刻机的焦距监控光罩，其特征在于：在横向上，相邻的所述第二种图形结构之间间隔所述第一种图形结构的数量相等；在纵向上，相邻的所述第二种图形结构之间间隔所述第一种图形结构的数量相等。

5.如权利要求4所述的光刻机的焦距监控光罩，其特征在于：在横向上，相邻的所述第二种图形结构之间间隔所述第一种图形结构的数量为一个；在纵向上，相邻的所述第二种图形结构之间间隔所述第一种图形结构的数量为二个。

6.如权利要求2所述的光刻机的焦距监控光罩，其特征在于：在所述焦距监控光罩的正中央位置设有一个所述第二种图形结构，且在纵向上，在所述正中央位置的所述第二种图形结构的两侧分别设置有一个所述第二种图形结构并组成3个所述第二种图形结构纵向连续排列的结构；

在位于和所述正中央位置的所述第二种图形结构两侧的间隔有一个所述第二种图形结构的横向位置上的所述第二种图形结构的纵向上的两侧相邻的一个所述第一种图形结构也分别用一个所述第二种图形结构图形替换并组成3个所述第二种图形结构纵向连续排列的结构。

7.如权利要求6所述的光刻机的焦距监控光罩，其特征在于：所述第二种图形结构的阵列结构包括7行和7列。