[发明专利]一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法

权利要求书

1.一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤1、制备磁芯基体：将纳米晶/非晶带材进行卷绕，并经退火处理形成磁芯基体；

步骤2、预固化：将磁芯基体进行初次浸胶固化处理，形成固化磁芯；

步骤3、抽真空固化：将固化磁芯完全浸入硬固化胶水中，进行真空含浸，将含浸后的固化磁芯进行烘烤，形成二次固化磁芯；

步骤4、切割：使用砂轮机对二次固化磁芯进行切割，得到切割面为镜面的磁芯。

2.根据权利要求1所述的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：步骤2的具体步骤为：

步骤2.1、将磁芯基体完全浸入含有环氧树脂、固化剂和稀释剂的胶水中，静置30分钟以上；

步骤2.2、将浸过胶水的磁芯基体取出并置于烤箱中，烘烤温度控制在120±5℃，保温时间4小时以上。

3.根据权利要求2所述的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：步骤2.1中使用的胶水中环氧树脂、固化剂、稀释剂的比例为1：1：15至1:1:100。

4.根据权利要求1所述的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：步骤3的具体步骤为：

步骤3.1、将固化磁芯和硬固化胶水放入容器中，硬固化胶水淹没固化磁芯的所有部分；

步骤3.2、将容器放入真空机中进行抽真空处理，抽真空次数为4次以上，每次的抽真空总时长设置为45分钟以上，抽真空总时间包含抽真空时间和保压时间，每次的抽真空时间设置为1分钟；

步骤3.3、将含浸后的固化磁芯取出并置于烤箱中，烘烤温度控制在170±5℃，保温时间240分钟以上。

5.根据权利要求4所述的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法，其特征在于：步骤3.3中，将固化磁芯置于烤箱之前，对固化磁芯表面的硬固化胶水进行擦拭。