[发明专利]腔室密封组件及生长炉

权利要求书

1.一种腔室密封组件，环绕设置在炉膛法兰与反应腔体之间，其特征在于，包括：

密封圈；以及

密封隔环，所述密封隔环的轴向两侧均设置有所述密封圈，用于分隔并支撑所述密封圈；

并且，在所述密封隔环中设置有第一抽气通道，所述第一抽气通道的第一端和第二端分别位于所述密封隔环的内周壁和外周壁上；在所述炉膛法兰中设置有第二抽气通道，所述第二抽气通道的第一端与所述第一抽气通道的第二端连接；所述第二抽气通道的第二端用于与抽气装置连接。

2.根据权利要求1所述的腔室密封组件，其特征在于，所述第一抽气通道包括沿所述密封隔环的周向均匀分布的多个抽气孔，每个所述抽气孔沿所述密封隔环的径向贯通所述密封隔环。

3.根据权利要求2所述的腔室密封组件，其特征在于，在所述密封隔环的内周壁上形成有环形凹槽，每个所述抽气孔位于所述环形凹槽中。

4.根据权利要求2所述的腔室密封组件，其特征在于，所述抽气孔的直径是所述密封隔环的轴向厚度的四分之一。

5.根据权利要求2所述的腔室密封组件，其特征在于，所述抽气孔的数量的取值范围在12～36个。

6.根据权利要求2所述的腔室密封组件，其特征在于，所述抽气孔的轴线位于所述密封隔环轴向厚度的中间位置处。

7.根据权利要求1所述的腔室密封组件，其特征在于，所述第二抽气通道的第二端位于所述炉膛法兰的外周壁上。

8.根据权利要求1-7任意一项所述的腔室密封组件，其特征在于，还包括上垫环和下垫环，二者沿所述反应腔体的轴向间隔设置；所述密封圈为两个，分别位于所述密封隔环的上下两侧；所述密封隔环和所述密封圈均位于所述上垫环和所述下垫环之间。

9.一种生长炉，包括反应腔体、上腔膛和下腔膛，所述上腔膛和下腔膛分别套设在所述反应腔体的上端和下端；并且，所述上腔膛和下腔膛均包括由下而上依次叠置的法兰端盖、炉膛法兰和炉膛体；其中，所述炉膛法兰的内周壁与所述反应腔体的外周壁之间具有环形间隙；

其特征在于，在所述环形间隙中设置有腔室密封组件，所述腔室密封组件采用权利要求1-8任意一项所述的腔室密封组件。

10.根据权利要求9所述的生长炉，其特征在于，所述抽气装置包括真空接头、抽气管路和抽气泵，其中，

所述真空接头与所述第二抽气通道的第二端连接；

所述抽气管路分别与所述抽气泵和所述真空接头连接。