[发明专利]一种基于单光镊介质微球高分辨率光学检测方法有效

专利信息
申请号: 201811202056.X 申请日: 2018-10-16
公开(公告)号: CN109269980B 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 刘锡;唐燕;谢仲业;刘江辉;赵立新;胡松 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/84
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 单光镊 介质 高分辨率 光学 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种基于单光镊介质微球高分辨率光学检测方法,其特征在于:所述方法包括步骤为:

步骤S1:在操控光路中,准直扩束后的激光束后经物镜聚焦形成单个光势阱,从而捕获单个介质微球,操控并移动介质微球获得最佳成像效果;

步骤S2:在照明光路中,白光光源经过准直后,经过显微镜,再经过介质微球,对样品进行照明;

步骤S3:利用CCD采集图像,进行成像分析,评估介质微球分辨能力得到高分辨率图像;

根据光镊原理,强聚焦的单个光势阱可捕获介质微球,灵活改变其空间位置,获得最佳成像效果;可使用的介质微球包括折射率为1.46的二氧化硅微球、折射率为1.59的PS微球、折射率为1.9的钛酸钡微球、折射率为2.2的二氧化钛微球;

利用白光照明光源进行照明,得到图像最清晰时即为调焦准确的位置;

其中,为了实现对介质微球的操控,激光经过扩束、准直,与物镜入瞳匹配,最终在物镜焦平面上形成强聚焦光场分布,实现对介质微球的独立操控,以获得最佳成像效果;

由于操控对象为直径几微米到几十微米的介质微球,将聚焦光束与介质微球的相互作用看成电磁散射过程,通过求解麦克斯韦方程组得到介质微球周围散射场分布,再根据动量守恒得到光场作用在介质微球上的辐射力,具体实施过程中,利用T矩阵方法进行计算,在球坐标系中,利用Derby积分,经物镜聚焦后焦点附近的光场可以表示为一系列平面波的叠加,

其中,k和f分别表示介质微球周围介质中的波数与物镜的焦距,α是由物镜决定的光线最大角度,R是介质微球所处空间位置,r是观察位置,单位矢量代表某个平面波分量的波矢,其中(θ,φ)为极角和方位角;l(θ)表示物镜入瞳光束振幅分布,a积分路径终点值,E(r)光场分布,sin(θ)是正弦三角函数,cos(θ)是余弦三角函数,dφdθ表示积分元,π是圆周率;表示单位角度矢量;

为计算方便,将入射场E(r)与散射场Es(r)展开为一系列球矢量波函数的形式,如下:

其中,m,n表示不同类别球面波矢,利用上标1,3代表球面波矢类别,a,b,c,d为展开系数,由等式(1)确定,过程如下:

对于等式(1)中表示的每一个平面波成分,具有以下关系:

其中,

其中,k表示介质微球周围介质中的波数,α是由物镜决定的光线最大角度,r是观察位置,单位矢量代表某个平面波分量的波矢,其中(θ,φ)为极角和方位角,l(θ)表示物镜入瞳光束振幅分布;m,n表示不同类别球面波矢,和是与Legendre函数相关的函数;

将等式(3)带入等式(6)可以得到入射场的展开系数:

其中,k表示介质微球周围介质中的波数,其中(θ,φ)为极角和方位角,l(θ)表示物镜入瞳光束振幅分布,和是与Legendre函数相关的函数,[ρ00,z0]是R的柱坐标,Jm(x)是m阶柱贝塞尔函数;

而根据T矩阵方法原理,散射场的展开系数与入射场展开吸入之间的关系可以表示为:

其中,[T]由介质微球决定的T矩阵,此时,入射场与散射场的展开系数已确定,由此可确定入射场合散射场,在此情况下,根据Maxwell应力张量积分可获得聚焦光束施加于粒子的作用力:

其中,S为包含粒子的任意闭合曲面;

通过建立光与介质微球相互作用模型,在此基础上,带入入射光场分布、介质微球折射率、介质微球直径、物镜数值孔径、浸没介质折射率参数,并分析各影响因素对操控效果的影响,利用单光镊有效实现介质微球的独立操控,获得最佳成像质量。

2.根据权利要求1所述的一种基于单光镊介质微球高分辨率光学检测方法,其特征在于:介质微球可以收集物体更多的高频信息,从而增强成像分辨率。

3.根据权利要求1所述的一种基于单光镊介质微球高分辨率光学检测方法,其特征在于:所有光路均共用同一高倍率显微镜,便于实现介质微球操控,为提高介质微球成像分辨力,采用浸没式测量方式,将介质微球以及待测结构均置于浸没液中进行测量。

4.根据权利要求1或2所述的一种基于单光镊介质微球高分辨率光学检测方法,其特征在于:采用单光镊技术操控介质微球,获得最佳成像质量,利用白光照明光源进行照明,得到图像最清晰时即为调焦准确的位置,CCD采集图像,并进行成像分析,实现高分辨率成像;该方法能够在远场区域,通过面成像方式,实现特征尺寸220nm的微纳结构测量,具有高分辨力、并行、快速测量优点。

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