[发明专利]一种紫膜或黄绿膜镜片的镀膜方法

权利要求书

1.一种紫膜或黄绿膜镜片的镀膜方法，包括以下步骤：

1）确定水温、水压：打开镀膜机总电源，再将冰水机电源打开，确定循环泵、压缩机工作，使水压达到0.2Mpa、水温达到18℃—22℃；

2）抽真空、除霜、充气：真空室温度设定在75~95℃，抽真空30~45分钟后，真空室冷冻机进行自动除霜，除霜时间45s后自动停止，再对真空室进行氩气充填，在真空室的气压与外面的大气压成正压0.1Mpa的时候真空室门自动打开；

3）单面蒸镀膜：把待镀膜的镜片放到镀膜机的真空室内，人工添加镀膜所需的紫膜或黄绿膜材料到四个不同的坩埚内，然后根据每层的镀膜工艺决定对相应的坩埚进行加热蒸镀，镀膜真空室温度设定45~55℃，镀膜时间设定30分钟，盛放镀膜材料的坩埚的温度设定1200℃，对镜片进行紫膜或黄绿膜镀膜；

4）凸面镀完后再将镜片进行翻转，用同样的工艺对凹面进行蒸镀膜；

5）打开镀膜机，取出镜片，检验，即完成镜片的紫膜或黄绿膜镀膜。

2.根据权利要求1所述的一种紫膜或黄绿膜镜片的镀膜方法，其特征在于：所述的步骤3）紫膜镀膜工艺为：紫膜材料为：SiO₂、ZrO₂、In₂O₃、Li，镀膜层数为七层：第一层，材料为SiO₂、蒸发率20、镀膜厚度2000-2600nm、电流40%；第二层，材料为ZrO₂、蒸发率8、镀膜厚度300-330nm、电流45%；第三层，材料为SiO₂、蒸发率8、镀膜厚度90-120nm、电流40%；第四层，材料为ZrO₂、蒸发率10、镀膜厚度580-1000nm、电流45%；第五层，材料为In₂O₃、蒸发率2、镀膜厚度：30-50nm、电流12%；第六层，材料为SiO₂、蒸发率10、镀膜厚度650-800nm、电流40%；第七层，材料为Li、蒸发率15、镀膜厚度70-110nm、电流12%。

3.根据权利要求1所述的一种紫膜或黄绿膜镜片的镀膜方法，其特征在于：所述的步骤3）黄绿膜镀膜工艺为：紫膜材料为：SiO₂、ZrO₂、In₂O₃、Li，共镀膜层数七层：第一层，材料为SiO₂、蒸发率20、镀膜厚度1000-2300nm、电流30%；第二层，材料为ZrO₂、蒸发率16、镀膜厚度200-330nm、电流45%；第三层，材料为SiO₂、蒸发率10、镀膜厚度100-150nm、电流25%；第四层为材料ZrO₂、蒸发率10、镀膜厚度500-550nm、电流30%；第五层，材料为In₂O₃、蒸发率4、镀膜厚度40-50nm、电流10%；第六层为材料SiO₂、蒸发率15、镀膜厚度950-1000nm、电流20%；第七层，材料为Li，蒸发率20、镀膜厚度100-110nm、电流：10%。