[发明专利]一种通过电场调控的光学结构在审
| 申请号： | 201811202491.2 | 申请日： | 2018-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN109031490A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 中山科立特光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B26/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528458 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学结构 电场调控 压电材料 光特性 入射光 第二导电层 衬底层 导电层 电连接 调节层 电源负极 电源正极 敏感特性 匹配效果 可调的 导电 匹配 研究 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种通过电场调控的光学结构，其特征在于：包括衬底层（1），设置于衬底层（1）上的导电层（2），该导电层（2）与电源负极电连接，所述导电层（2）的上方设置有至少2个相互间隔的调节层（3），所述调节层（3）的上方均设置有第二导电层（4），该第二导电层（4）均与电源正极电连接。
2.如权利要求1所述的一种通过电场调控的光学结构，其特征在于：所述第二导电层（4）的上方还设置有金属微纳结构层（5）。
3.如权利要求2所述的一种通过电场调控的光学结构，其特征在于：所述金属微纳结构层（5）是由金或银制成。
4.如权利要求1所述的一种通过电场调控的光学结构，其特征在于：所述衬底层（1）是由二氧化硅或者硅制成。
5.如权利要求1所述的一种通过电场调控的光学结构，其特征在于：所述导电层（2）、第二导电层（4）均由石墨烯制成。
6.如权利要求1所述的一种通过电场调控的光学结构，其特征在于：所述调节层（3）是由多个相互间隔的矩形块制成。
7.如权利要求6所述的一种通过电场调控的光学结构，其特征在于：所述调节层（3）由多个相互等间隔的矩形块制成。
8.如权利要求1所述的一种通过电场调控的光学结构，其特征在于：所述调节层（3）是由压电材料制成。
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