[发明专利]一种聚合物薄膜及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201811203740.X | 申请日： | 2018-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN109224884B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 李义涛;张魁;程堂剑;张凌飞;肖文武 | 申请（专利权）人： | 东莞东阳光科研发有限公司 |
| 主分类号： | B01D71/34 | 分类号： | B01D71/34;B01D69/02;B01D67/00;B01D65/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 523871 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 聚合物 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种聚合物薄膜，其特征在于，所述聚合物薄膜以聚偏氟乙烯膜为基础膜，在所述聚偏氟乙烯膜的一面接枝有聚N,N-二甲基(丙烯酰胺丙基)氨基丙磺酸；
所述聚N,N-二甲基(丙烯酰胺丙基)氨基丙磺酸在聚偏氟乙烯膜一面的接枝率为3-15％；
所述聚偏氟乙烯膜接枝有聚N,N-二甲基(丙烯酰胺丙基)氨基丙磺酸的一面的分子结构如式I所示：
其中，n为9000-14000，m为200-2200。
2.根据权利要求1所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述聚偏氟乙烯膜的平均孔径为10-100nm。
3.根据权利要求1或2所述的聚合物薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
在引发剂的引发下，使覆于基板上的聚偏氟乙烯基础膜与N,N-二甲基(丙烯酰胺丙基)氨基丙磺酸发生聚合反应，在聚偏氟乙烯膜的一面上接枝上聚N,N-二甲基(丙烯酰胺丙基)氨基丙磺酸，而后去除基板，得到所述聚合物薄膜。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述覆于基板上的聚偏氟乙烯基础膜的制备方法为：
将包含聚偏氟乙烯的铸膜液在基板上涂膜，而后进行相分离，清洗，得到覆于基板上的聚偏氟乙烯基础膜。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述铸膜液还包括成孔剂、亲水改性剂和硅烷偶联剂。
6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述铸膜液的制备方法为：将聚偏氟乙烯、成孔剂、亲水改性剂和硅烷偶联剂在60-90℃下溶解于溶剂中，搅拌12-24h，随后在40-60℃下静置脱泡12-24h得到铸膜液。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述成孔剂为PVP K30、PVP K64或PVPK90中的至少一种。
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述亲水改性剂为PEG400或PEG600。
9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述硅烷偶联剂为KH550或KH560。
10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述铸膜液中溶剂为N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮或二甲基亚砜中的至少一种。
11.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在铸膜液中所述聚偏氟乙烯膜的重量百分比为10-20％。
12.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在铸膜液中所述成孔剂的重量百分比为5-15％。
13.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在铸膜液中所述亲水改性剂的重量百分比为5-10％。
14.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在铸膜液中所述硅烷偶联剂的重量百分比为1-5％。
15.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在铸膜液中所述溶剂的重量百分比为60-70％。
16.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述基板为玻璃基板或PET基板。
17.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述相分离是在浓度为20-40％溶剂的凝固浴中进行的。
18.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述相分离的温度为30-40℃。
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