[发明专利]一种抗反射防水玻璃

说明书

本发明涉及玻璃技术领域，尤指一种抗反射防水玻璃，包括玻璃体，所述玻璃体至少一个面形成亚微米级或纳米级长度的抗反射结构，所述抗反射结构采用湿式刻蚀法形成，所述玻璃体抗反射结构顶端的水平切面面积小于抗反射结构底端的水平切面面积，所述抗反射结构表面还设有防水镀膜层。本发明抗反射防水玻璃采用湿式刻蚀法来形成玻璃体表面的抗反射结构。光线从折射率为1的空气到折射率为1.52的玻璃体中，逐渐增强效果，因而拥有较好的抗反射作用；其中，本玻璃体抗反射结构还具有良好的机械性和耐久性；此外，在玻璃体抗反射结构的一面还设有耐指纹防水镀膜层，具有150度以上的超防水性能，实用性强，易于生产，利于推广应用。

技术领域

本发明涉及玻璃技术领域，尤指一种抗反射防水玻璃。

背景技术

抗反射膜玻璃是在光学元器件表面镀上一层抗反射膜，形成一些界面，使得经由各个界面反射回来的光波与光波之间产生破坏性的干涉，增加玻璃透过率，减少反射率，从而减少图像失真，使用户享受更清晰的影像品质，以达到减少眩光的现象。

在通常情况下，玻璃表面对光线的反射率为4%。为了防反射，一般会在玻璃表面形成4-6层的低折薄膜和高折射薄膜，但是该工艺复杂，形成的薄膜与玻璃之间的结合力也不好。而且在机动车两侧的后视镜、建筑用玻璃的表面需要有防水附着或者清洗便捷的功能，手机表面的玻璃需要有防指纹和防水功能。因此，利用纳米结构开发了满足上述需求的防反射和防水功能的玻璃。

现有技术中纳米结构的制造方法如下：在玻璃体表面上镀镍等元素后，再把镍基材加热到700度以上，并形成纳米岛，然后把上述基材当做护板用干式的反应离子刻蚀方法来形成纳米结构的柱状，再把当作护板的镍去掉，用氟元素防水镀膜来实现防反射和防水功能。由于纳米岛在纳米或微米范围内形成的大小尺寸不同，不能使用同向性特征的湿式刻蚀法，要使用异向性特征的干式反应离子刻蚀方法。但是使用该方法的设备成本高，大量生产困难，也无法制造大尺寸产品。虽然市场上已经出现了纳米印刷技术来形成纳米级大小的护板方法，但是该设备价格高，产能低，无法推广使用。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供一种使用湿式方法刻蚀并且适于推广使用的抗反射防水玻璃。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种抗反射防水玻璃，包括玻璃体，所述玻璃体至少一个面形成亚微米级或纳米级长度的抗反射结构，所述抗反射结构采用湿式刻蚀法形成，所述玻璃体抗反射结构顶端的水平切面面积小于抗反射结构底端的水平切面面积，所述抗反射结构表面还设有防水镀膜层。

进一步地，所述抗反射结构为凹凸抗反射结构，所述抗反射结构的凸起高度比抗反射结构之间的间距小。

其中，所述抗反射结构的高度为50-300nm，所述抗反射结构与抗反射结构之间的间距为100-500nm。

进一步地，所述防水镀膜层采用氟元素或硅烷的耐指纹防水镀膜。

进一步地，所述玻璃体是硼硅玻璃、钠钙玻璃、硅酸铝玻璃、石英玻璃或耐热玻璃，或者是上述玻璃表面经过热处理或化学钢化处理的玻璃。

进一步地，所述玻璃体形成抗反射结构的一面反射率在2%以下，水滴角在150度以上。

具体地，上述抗反射结构的湿式刻蚀法制造过程如下：

S1，在玻璃体表面镀铝并形成铝层；

S2，在电解溶液中进行阳极氧化铝层处理，并且形成阳极氧化层；

S3，使用混合液腐蚀表面的阳极氧化层；

S4，把残存的铝层当作护板，刻蚀玻璃体表面；

S5，最后刻蚀残存的铝层。

具体地，在S1中，通过蒸发、溅射或CVD的方式形成铝层。