[发明专利]一种晒盐膜体池和晒盐方法

权利要求书

1.一种晒盐膜体池，其特征在于，包括：固定支撑体以及至少一个高分子材料制成的晒盐台，其中，

所述固定支撑体，用于将所述高分子材料制成的晒盐台稳固于盐湖表面一定范围内；

每一个所述高分子材料制成的晒盐台，用于存蓄高浓度盐湖卤水，以进行晒盐；

存蓄有高浓度盐湖卤水的高分子材料制成的晒盐台结构为碗型；

所述固定支撑体，包括：一张支撑网和多个浮标，其中，

每一个所述高分子材料制成的晒盐台放置于所述支撑网上；

所述浮标，设置于所述高分子材料制成的晒盐台的延伸方向；

每一个所述高分子材料制成的晒盐台与其延伸方向上的浮标之间定位连接，所述浮标与所述支撑网定位连接；

任一浮标固定于外部固定架上。

2.根据权利要求1所述的晒盐膜体池，其特征在于，

所述浮标的个数n为：

其中，表征当所述高分子材料制成的晒盐台存蓄高浓度盐湖卤水时，浸入盐湖中的体积分数，取值范围为ρ卤水表征高浓度盐湖卤水的初始密度，取值范围为1.3×10³kg/m³～1.5×10³kg/m³；H表征存蓄有高浓度盐湖卤水的高分子材料制成的晒盐台的碗型结构能够达到的最大深度，取值范围为1m～6m；m表征高分子材料制成的晒盐台的质量；g＝9.8N/kg；F表征单个浮标所能承受的力；K表征所述高分子材料制成的晒盐台的个数；

n个浮标均匀分布于K个所述高分子材料制成的晒盐台的延伸方向，每一个浮标距其定位连接的所述高分子材料制成的晒盐台边缘的距离为0.3m～1.5m。

3.根据权利要求2所述的晒盐膜体池，其特征在于，

所述高分子材料制成的晒盐台承载卤水的量M：

其中，M表征所述高分子材料制成的晒盐台承载卤水的量；S表征所述高分子材料制成的晒盐台的表面积；H表征存蓄有高浓度盐湖卤水的高分子材料制成的晒盐台碗型结构能够达到的最大深度，取值范围为1m～6m。

4.根据权利要求1至3任一所述的晒盐膜体池，其特征在于，

所述高分子材料制成的晒盐台的表面积为8m²～250m²。

5.根据权利要求1至3任一所述的晒盐膜体池，其特征在于，

所述高分子材料制成的晒盐台的厚度为5mm～20mm；

和/或，

所述高分子材料制成的晒盐台的颜色为黑色。

6.根据权利要求1至3任一所述的晒盐膜体池，其特征在于，

所述高分子材料制成的晒盐台的形状为圆形、长方形以及正多边形中的任意一种。

7.一种利用权利要求1至6任一所述的晒盐膜体池实现的晒盐方法，其特征在于，将晒盐膜体池稳固于盐湖表面一定范围内，还包括：

通过喷射方式将高浓度盐湖卤水喷射到所述晒盐膜体池的晒盐台上，其中，高浓度盐湖卤水降落到所述晒盐台上的位置范围为R为所述晒盐台的边缘到晒盐台中心点的距离，以使存蓄有高浓度盐湖卤水的晒盐台结构为碗型。