[发明专利]一种涂层在审
申请号: | 201811211290.9 | 申请日: | 2018-10-17 |
公开(公告)号: | CN109234677A | 公开(公告)日: | 2019-01-18 |
发明(设计)人: | 刘谋苗;龚学武;王文宝;李军旗 | 申请(专利权)人: | 基准精密工业(惠州)有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/34 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 习冬梅;薛晓伟 |
地址: | 516100 广东省惠州市博*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 打底层 功能层 过渡层 表面覆盖层 成分梯度 基材表面 距离增大 涂层工具 逐渐减小 逐渐增大 基材 涂覆 施加 | ||
1.一种涂层,所述涂层包括打底层、功能层、表面覆盖层,其特征在于,所述打底层与功能层之间还设置了成分过渡层,所述成分过渡层为成分梯度层,所述成分梯度层同时包含Ti、Al、Si、N四种元素,其中Al含量随着距基材表面的距离增大而逐渐减小,Si含量随着距基材表面的距离增大而逐渐增大。
2.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述打底层的化学组成为Ti(1-x)AlxN,x≤0.67或者x≤0.50,其中,x表示仅考虑金属元素时Al元素的原子百分比。
3.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述功能层的化学组成为TipAlqSidN,其中,p+q+d=1,p、q和d为仅考虑对应平衡元素Ti、Al和Si元素的原子百分比,0.30≤q≤0.50,0.02≤d≤0.10;或者0.35≤q≤0.45,0.03≤d≤0.06。
4.根据权利要求3所述的涂层,其特征在于,所述功能层(200)的取向择优系数大于等于1,由以(200)晶面择优生长的立方结构氮化钛组成,在择优取向(200)晶面上的晶粒度范围为5~20nm。
5.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述表面覆盖层的化学组成为TiaAlbSicN,其中a+b+c=1,a、b和c为仅考虑对应平衡元素Ti、Al和Si元素的原子百分比;其中b≤0.67,c≤0.15;或者a=0.9,b=0,c=0.1;或者a=0.5,b=0.5,c=0。
6.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述打底层、成分过渡层、功能层、表面覆盖层的总厚度为0.1~5μm;及/或,所述打底层、功能层的厚度分别占涂层总厚度的15~20%、55~65%,所述成分过渡层的厚度占功能层厚度的30~40%。
7.一种涂层工具,其特征在于,所述涂层工具包括一基材及如权利要求1-6所述的涂层,所述涂层形成于所述基材上,形成所述涂层工具。
8.一种加工权利要求1所述涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供一经过表面处理的基材;
于所述基材上形成所述打底层;
于所述打底层上形成所述成分过渡层;
于所述成分过渡层上形成所述功能层;
于所述功能层上形成所述表面覆盖层。
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