[发明专利]用于制备包含P和N供体配体的钌或锇络合物的方法

权利要求书

1.用于制备顺-[M(X)₂(L¹)_m(L²)]络合物的方法，所述方法包括以下步骤:

a)在醇溶剂或醇溶剂和芳族溶剂的混合物中处理反-[M(X)₂(L¹)_m(L²)]络合物；和

b)加热所述反应混合物以形成顺-[M(X)₂(L¹)_m(L²)]络合物；

其中,

M为钌或锇；

X为阴离子配体；

L¹为单齿磷配体或为双齿磷配体；

m为1或2，其中，

当m为1时，L¹为双齿磷配体；

当m为2时，各L¹为单齿磷配体；和

L²为包含含氮杂芳基和氨基的双齿N,N配体。

2.根据权利要求1所述的方法，其中步骤(a)进一步包括磷配体L¹。

3.用于制备顺-[M(X)₂(L¹)_m(L²)]络合物的方法，所述方法包括以下步骤:

使[M(X)₂(L)₂(L²)]络合物与磷配体L¹在醇溶剂或醇溶剂和芳族溶剂的混合物中反应以形成顺-[M(X)₂(L¹)_m(L²)]络合物；

其中,

M为钌或锇；

X为阴离子配体；

L为单齿磷配体；

L¹为不同于L的单齿磷配体，或为双齿磷配体；

m为1或2，其中，

当m为1时，L¹为双齿磷配体；

当m为2时，各L¹为单齿磷配体；和

L²为包含含氮杂芳基和氨基的双齿N,N配体。

4.根据权利要求1或3所述的方法，其中M为钌。

5.根据权利要求1或3所述的方法，其中L为叔膦配体PR₁R₂R₃，其中R₁、R₂和R₃独立地选自未取代的C_1-20-烷基，取代的C_1-20-烷基，未取代的C_3-20-环烷基，取代的C_3-20-环烷基，未取代的C_1-20-烷氧基，取代的C_1-20-烷氧基，未取代的C_5-20-芳基，取代的C_5-20-芳基，未取代的C_1-20-杂烷基，取代的C_1-20-杂烷基，未取代的C_2-20-杂环烷基，取代的C_2-20-杂环烷基，未取代的C_4-20-杂芳基和取代的C_4-20-杂芳基。

6.根据权利要求1或3所述的方法，其中L¹为手性或非手性、单齿或为双齿磷配体，其中磷原子共价键合至3个碳原子或共价键合至n个杂原子和3-n个碳原子，其中n＝1、2或3。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述杂原子选自N和O。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其中所述磷配体L¹选自未取代或取代Binap配体、PPhos配体、PhanePhos配体、QPhos配体、Josiphos配体和Bophoz配体。