[发明专利]处理装置以及具有扩散路径的构件

权利要求书

1.一种处理装置，具有：

反应容器，其用于接收流入的气体，

所述反应容器具有：

等离子体生成室，其用于从所述气体生成包含自由基的等离子体；

隔板构件，其形成有多个贯通孔，设置于所述等离子体生成室与处理室之间；以及

所述处理室用于对载置于由设置于所述反应容器的底壁的支承构件支承的载置台的被处理体实施基于等离子体的规定的处理，以及

构件，其设置在所述反应容器的侧壁或者底壁并且形成扩散路径，其中，所述构件包括分别具有环状的第一构件、第二构件以及开口部，

其中，空气间隙将所述第一构件和所述第二构件的表面与所述载置台和所述支承构件的表面隔开，

其中，所述第二构件设置在所述处理室的侧壁附近以保护所述侧壁，

其中，所述第一构件形成在所述第二构件上，以径向突出到所述反应容器的内部，并且所述第一构件具有第一部分和第二部分，所述第一部分径向延伸到在所述载置台的下方形成的较低空间，所述第二部分从所述第一部分的末端形成并且朝向所述反应容器的底面垂直延伸，

其中，所述开口部设置于比所述载置台靠下侧的位置并位于所述第一构件与所述反应容器之间，以将所述处理室的空间与该扩散路径的空间连通，该开口部越靠近排气口则开口面积越小，所述开口部沿水平方向形成，以在所述环状的内周处的所述第一构件与所述反应容器的底壁之间具有预定的高度，并且在沿所述环状的内周处的所述高度上形成倾斜，以及

所述自由基从所述等离子体生成室通过所述隔板构件的多个贯通孔流入所述处理室，并且进一步流过所述开口部和所述扩散路径，并从所述排气口排出。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，

所述处理装置在根据式(1)计算出的克努森数Kn小于0.1的条件下使用，

Kn＝λ/L···(1)

p＝nk_BT

在此，λ表示平均自由程(m)，L表示特征长度(m)，n表示气体分子数密度(m^-3)，σ表示分子的直径(m)，p表示压力(Pa)，K_B表示玻尔兹曼常数(J/K)，T表示温度(K)。

3.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，

在所述扩散路径与所述排气口相连通的部分，该排气口的截面积为该扩散路径的截面积以下。