[发明专利]掩模板及蒸镀装置、基板的制备方法

权利要求书

1.一种掩模板，其特征在于，包括掩模板本体，所述掩模板本体包括至少一个开口区；

所述掩模板还包括至少一个遮挡部；每个所述开口区对应至少一个所述遮挡部，且沿垂直所述开口区所处的平面的方向，所述遮挡部的投影被所述开口区的投影完全覆盖；

所述遮挡部通过支撑架与所述掩模板本体固定连接；所述支撑架由多个支撑杆连接构成；所述多个支撑杆中与掩模板本体连接的支撑杆由所述掩模板本体延伸出，位于所述掩模板本体的一侧。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述遮挡部位于所述开口区内；

所述多个支撑杆中与所述遮挡部连接的支撑杆由所述遮挡部延伸出，位于所述掩模板本体的一侧；

与所述掩模板本体连接的支撑杆和与所述遮挡部连接的支撑杆位于所述掩模板本体的同一侧。

3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述支撑架包括至少三个支撑子部；

每个所述支撑子部均包括三个支撑杆，且该三个支撑杆依次首尾连接成U型形状。

4.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述遮挡部位于所述开口区的一侧；

所述支撑架包括至少三个支撑子部；

每个所述支撑子部均包括两个支撑杆，且该两个支撑杆依次首尾连接成L型形状。

5.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述遮挡部位于所述开口区的一侧；

与掩模板本体连接的支撑杆，其另一端与所述遮挡部连接；支撑杆呈直线型。

6.根据权利要求3或4所述的掩模板，其特征在于，所述支撑子部为四个；

四个所述支撑子部中，其中两个所述支撑子部位于第一平面内，另外两个所述支撑子部位于第二平面内，且所述第一平面和所述第二平面垂直。

7.根据权利要求1-5任一项所述的掩模板，其特征在于，所述遮挡部包括遮挡部本体以及贯穿所述遮挡部本体的通孔，所述通孔位于所述遮挡部本体的中间位置；或者；

所述遮挡部包括遮挡部本体，所述遮挡部本体中无贯穿所述遮挡部本体的通孔。

8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的掩模板。

9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括蒸镀源；所述蒸镀源为线蒸镀源或点蒸镀源。

10.一种基板的制备方法，其特征在于，包括：

利用权利要求8或9所述的蒸镀装置，在所述基板的显示区蒸镀上蒸镀材料，形成蒸镀材料层；

其中，所述蒸镀装置中掩模板的一个开口区对应一个所述基板的显示区。