[发明专利]一种抗菌军工用布在审

专利信息
申请号: 201811218142.X 申请日: 2018-10-19
公开(公告)号: CN109203590A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 陈根章 申请(专利权)人: 陈根章
主分类号: B32B3/24 分类号: B32B3/24;B32B9/02;B32B5/30;B32B9/00;B32B9/04;B32B15/14;B32B15/04;B32B15/16;B32B27/06;B32B27/40;B32B33/00;A41D31/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 225300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 棉麻 经线 抗菌层 纬线 有机硅铵盐 军工 抗菌布 抗菌剂 折射层 抗菌 防水 纳米级氧化锌 活性炭 恶劣环境 抗菌效果 细菌感染 材料层 草珊瑚 复合银 颗粒层 杀菌层 纤维层 透气 涂抹 细菌 安全
【说明书】:

发明公开了一种抗菌军工用布,包括抗菌布本体,所述抗菌布本体包括有棉麻底层、抗菌层和防水折射层,所述棉麻底层的顶部设有抗菌层,所述抗菌层的顶部设有防水折射层,所述棉麻底层包括有棉麻经线和棉麻纬线,所述棉麻经线和棉麻纬线的表面均涂抹有有机硅铵盐抗菌剂。本发明通过设置棉麻经线、棉麻纬线、有机硅铵盐抗菌剂、草珊瑚纤维层、复合银材料层、活性炭透气杀菌层、纳米级氧化锌颗粒层和SiO2底层解决了现有市场上的军工用布结构简单,不具备抗菌效果,在应对各种恶劣环境时无法隔绝和杀灭细菌,造成使用者直接面对细菌感染等各种问题,对使用者的安全起不到保护的作用,实用性较差的问题。

技术领域

本发明涉及抗菌布技术领域,具体为一种抗菌军工用布。

背景技术

抗菌面料具有良好的安全性,它可以高效完全去除织物上的细菌、真菌和霉菌,保持织物清洁,并能防止细菌再生和繁殖,目前市场上主流的处理方式有两种:一种是内置的银离子抗菌面料,采用纺丝级抗菌技术把抗菌剂直接做到化学纤维里面;另一种是后处理技术即通过面料后续定型工艺加进去,后处理的工艺相对简单成本容易根据客户的具体要求进行控制,是市场上应用最多的一种。

军工用布要求较高,需要适应各种恶劣天气和气候,现有市场上的军工用布结构简单,不具备抗菌效果,在应对各种恶劣环境时无法隔绝和杀灭细菌,造成使用者直接面对细菌感染等各种问题,对使用者的安全起不到保护的作用,实用性较差。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抗菌军工用布,具备抗菌杀菌的优点,解决了现有市场上布料不具备抗菌杀菌功能的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种抗菌军工用布,包括抗菌布本体,所述抗菌布本体包括有棉麻底层、抗菌层和防水折射层,所述棉麻底层的顶部设有抗菌层,所述抗菌层的顶部设有防水折射层,所述棉麻底层包括有棉麻经线和棉麻纬线,所述棉麻经线和棉麻纬线的表面均涂抹有有机硅铵盐抗菌剂,所述抗菌层包括有草珊瑚纤维层、复合银材料层、活性炭透气杀菌层、纳米级氧化锌颗粒层和SiO2底层,所述草珊瑚纤维层的底部设有复合银材料层,所述复合银材料层的底部设有活性炭透气杀菌层,所述活性炭透气杀菌层的底部设有纳米级氧化锌颗粒层,所述纳米级氧化锌颗粒层的底部设有SiO2底层。

优选的,所述防水折射层包括有微多孔聚氨酯层、低折射率材料层和高折射率材料层,所述微多孔聚氨酯层的底部设有低折射率材料层,所述低折射率材料层的底部设有高折射率材料层。

优选的,所述复合银材料层的制作工艺为无机氧化物中添加银离子,银离子浓度在0.5-5%之间。

优选的,所述棉麻底层的厚度为2.3-3.6mm,所述抗菌层的厚度为2.5-3.5mm,所述防水折射层的厚度为1-1.8mm。

与现有技术相比,本发明的有益效果如下:

1、本发明通过设置棉麻经线、棉麻纬线、有机硅铵盐抗菌剂、草珊瑚纤维层、复合银材料层、活性炭透气杀菌层、纳米级氧化锌颗粒层和SiO2底层,可使装置达到抗菌杀菌的功能,解决了现有市场上的军工用布结构简单,不具备抗菌效果,在应对各种恶劣环境时无法隔绝和杀灭细菌,造成使用者直接面对细菌感染等各种问题,对使用者的安全起不到保护的作用,实用性较差的问题。

2、本发明通过防水折射层,能够使布料在使用时起到防水和折射阳光的功能,让使用者的使用体验更好,提升了装置的使用性,通过复合银材料层,能够使布料的杀菌的功能更强,提升了装置的杀菌效果,使装置的使用品质更高,通过控制厚度,能够使布料的厚度更加的合理,让使用者使用的更加舒适,提升了装置的实用性。

附图说明

图1为本发明结构示意图;

图2为本发明棉麻底层俯视图;

图3为本发明抗菌层剖视图;

图4为本发明防水折射层剖视。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陈根章,未经陈根章许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811218142.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top