[发明专利]IPMC材料的制备方法、其中间体的制备方法、IPMC材料有效
| 申请号： | 201811220201.7 | 申请日： | 2018-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN109338422B | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 常龙飞;杨倩;牛清正;李超群;吴玉程;何青松;胡颖;吕品 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | C25D3/48 | 分类号： | C25D3/48;C25D5/56 |
| 代理公司： | 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 | 代理人： | 王亚洲 |
| 地址： | 242000 安徽省宣城市经济技*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | ipmc 材料 制备 方法 中间体 | ||
1.一种IPMC材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：基体膜糙化处理发生在基体膜进行第一次离子交换处理之后以及基体膜进行第一次还原处理之前。
2.根据权利要求1所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，在所述基体膜进行第一次还原处理之后，再先后进行离子交换处理、还原处理，每一次离子交换处理、还原处理为一个周期。
3.根据权利要求2所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述周期为2～5次。
4.根据权利要求1所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述基体膜糙化处理包括喷砂处理、砂纸打磨、微针糙化、等离子体刻蚀的一种。
5.根据权利要求4所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述微针糙化的糙化装置包括微针滚轮或微针板。
6.根据权利要求1所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述离子交换处理采用的还原镀液包括含有Pd2+、Ag+、Au+、Ni+、Cu2+的络合盐溶液至少一种。
7.根据权利要求1所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述还原处理采用的还原剂为NaBH4。
8.一种IPMC材料的中间体制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、将预处理后的基体膜进行第一次离子交换处理；
步骤二、将步骤一得到的基体膜进行糙化处理后，冲洗；
步骤三、将步骤二处理后的基体膜进行第一次还原处理；
步骤四，对步骤三处理后的基体膜先后再次进行离子交换处理、还原处理，每一次离子交换处理、还原处理为一个周期，该周期持续多次。
9.根据权利要求8所述的IPMC材料的中间体制备方法，其特征在于，所述周期持续2～5次。
10.一种采用如权利要求1至7任一项所述的IPMC材料的制备方法制备的IPMC材料。
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