[发明专利]二醇基的保护方法及脱保护方法在审
| 申请号： | 201811220387.6 | 申请日： | 2015-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN109369601A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 中村刚希;长濑久人;藤野雄太;渡边克之;胜又泰司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C07D317/30 | 分类号： | C07D317/30;C07D333/32;C07D319/06;C07D333/46;C07D409/06;C07D493/04;C07D497/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二醇基 脱保护 制造 羟基 新型化合物 羧基保护基 保护剂 氢原子 式中 | ||
【权利要求书】：
1.一种1,2-二醇基或1,3-二醇基的保护方法，其特征在于，
使1,2-二醇基或1,3-二醇基在碱的存在下与以通式(19)表示的基团进行反应，
式中，R1a及R1b相同或不同，是氢原子或羧基保护基：*为键合位置。
2.一种被保护的1,2-二醇基或1,3-二醇基的脱保护方法，其特征在于，
使被以通式(19)表示的基团保护的1,2-二醇基或1,3-二醇基与碱进行反应，
式中，R1a及R1b相同或不同，是氢原子或羧基保护基：*是键合位置。
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