[发明专利]具有背面反射体的光伏器件有效

专利信息
申请号: 201811221714.X 申请日: 2013-11-18
公开(公告)号: CN109638100B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 吴志力;许丽;严文材;吴忠宪 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L31/056 分类号: H01L31/056;H01L31/0445;H01L31/0749
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 背面 反射 器件
【权利要求书】:

1.一种光伏器件,包括:

衬底;

背面电极层,形成在所述衬底之上;

背面反射体,形成在所述背面电极层之上且覆盖所述背面电极层的表面积的20%到90%,所述背面反射体由一层第一反射体材料和一层第二反射体材料构成的材料对或多个所述材料对形成,所述第二反射体材料形成为与所述背面电极层接触,且所述第一反射体材料形成在所述第二反射体材料之上,其中,所述背面反射体包括平行于第一轴设置的多根第一线和平行于第二轴设置的多根第二线且形成为网格结构,所述第一轴和所述第二轴相交,所述多根第一线和所述多根第二线中的一条线或多条线的高度不同,或者所述多根第一线和所述多根第二线中的一条线或多条线的宽度不同,其中,形成所述背面反射体的至少一层所述第一反射体材料和至少一层所述第二反射体材料的每一层的深度介于30nm和300nm之间;

吸收层,形成在所述背面电极层和所述背面反射体之上,所述吸收层产生完全耗尽的电池;

缓冲层,形成在所述吸收层之上;以及

正面接触层,形成在所述缓冲层之上。

2.根据权利要求1所述的光伏器件,其中,所述背面反射体由具有1.2和3.0之间的折射率的第一反射体材料形成。

3.根据权利要求1所述的光伏器件,其中,所述第一反射体材料的折射率大于所述第二反射体材料的折射率。

4.根据权利要求3所述的光伏器件,其中,所述第一反射体材料的折射率介于1.5和4.5之间,而所述第二反射体材料的折射率介于1.2和2.5之间。

5.根据权利要求1所述的光伏器件,其中,使用掩模通过溅射形成所述背面反射体。

6.一种形成光伏器件的方法,包括:

在衬底之上形成背面电极层;

在所述背面电极层之上形成背面反射体,所述背面反射体对于所述背面电极层的表面积的覆盖率介于20%和90%之间,所述背面反射体由一层第一反射体材料和一层第二反射体材料构成的材料对或多个所述材料对形成,所述第二反射体材料形成为与所述背面电极层接触,且所述第一反射体材料形成在所述第二反射体材料之上,其中,所述背面反射体包括平行于第一轴设置的多根第一线和平行于第二轴设置的多根第二线且形成为网格结构,所述第一轴和所述第二轴相交,其中,形成所述背面反射体的至少一层所述第一反射体材料和至少一层所述第二反射体材料的每一层的深度介于30nm和300nm之间;

调节所述多根第一线和所述多根第二线中的一条线或多条线的宽度或高度,使得所述一条线或多条线的宽度或高度不同于所述多根第一线和所述多根第二线中的其他线的宽度或高度;

在所述背面电极层和所述背面反射体之上形成吸收层,所述吸收层产生完全耗尽的电池;

在所述吸收层之上形成缓冲层;以及

在所述缓冲层之上形成正面接触层。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,所述背面反射体由具有1.2和3.0之间的折射率的第一反射体材料形成。

8.根据权利要求6所述的方法,其中,所述第一反射体材料的折射率大于所述第二反射体材料的折射率。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一反射体材料的折射率介于1.5和4.5之间,而所述第二反射体材料的折射率介于1.2和2.5之间。

10.根据权利要求6所述的方法,其中,使用掩模通过溅射形成所述背面反射体。

11.一种光伏器件,包括:

衬底,包括玻璃、塑料或金属箔;

背面电极层,位于所述衬底之上;

背面反射体,位于所述背面电极层之上且覆盖所述背面电极层的表面积的20%到90%,所述背面反射体由一层第一反射体材料和一层第二反射体材料构成的材料对或多个所述材料对形成,所述第二反射体材料形成为与所述背面电极层接触,且所述第一反射体材料形成在所述第二反射体材料之上,其中,所述第一反射体材料的折射率大于所述第二反射体材料的折射率,其中,所述背面反射体包括平行于第一轴设置的多根第一线和平行于第二轴设置的多根第二线且形成为网格结构,所述第一轴和所述第二轴相交,所述多根第一线和所述多根第二线中的一条或多条的高度不同,或者所述多根第一线和所述多根第二线中的一条或多条的宽度不同,其中,形成所述背面反射体的至少一层所述第一反射体材料和至少一层所述第二反射体材料的每一层的深度介于30nm和300nm之间;

吸收层,位于所述背面电极层和所述背面反射体之上,所述吸收层产生完全耗尽的电池;

缓冲层,位于所述吸收层之上;以及

正面接触层,形成在所述缓冲层之上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811221714.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top