[发明专利]垫监测装置及包括其的垫监测系统、垫监测方法

权利要求书

1.一种垫监测装置，其用于监测研磨垫的表面状态，通过照射于所述研磨垫的表面的光的散射图案来监测所述研磨垫的表面状态。

2.根据权利要求1所述的垫监测装置，

所述研磨垫包括透光性的第一部分及非透光性的第二部分，

所述垫监测装置从所述研磨垫表面的相反侧向所述第一部分照射光从而获取所述散射图案。

3.根据权利要求2所述的垫监测装置，

所述垫监测装置通过所述第一部分的散射图案生成针对所述第一部分的表面粗糙度的指标。

4.根据权利要求3所述的垫监测装置，

所述垫监测装置设定针对所述第一部分及第二部分的表面粗糙度的相关系数，且通过第一部分的散射图案生成针对所述第二部分的表面粗糙度的指标。

5.根据权利要求3所述的垫监测装置，

所述垫监测装置将针对所述第一部分的表面粗糙度的指标和所设定的指标进行比较，从而检测是否需要针对所述研磨垫的调节工艺。

6.一种垫监测装置，其包括：

透光性窗口垫，其形成于研磨垫；

光学系统，其照射光于所述窗口垫，从而获取所述窗口垫的表面状态信息；以及

分析仪，其以所述光学系统所获取的信息为基础分析所述研磨垫的表面状态。

7.根据权利要求6所述的垫监测装置，

所述光学系统包括：

光源，其从所述研磨垫的表面相反侧向所述窗口垫照射光；以及

检测部，其从所述窗口垫的表面接收反射光。

8.根据权利要求7所述的垫监测装置，

所述检测部包括通过接收的所述反射光获取散射图像的CCD。

9.根据权利要求8所述的垫监测装置，

所述分析仪通过图像快速傅氏变换去除所述散射图像的噪音。

10.根据权利要求8所述的垫监测装置，

所述分析仪从所述散射图像生成指标，且将设定的相关系数适用于所述生成的指标从而生成针对所述研磨垫的表面粗糙度的预测结果值。

11.根据权利要求7所述的垫监测装置，

针对所述分析仪，

如果所述检测部检测到的光量减少，就判断为所述研磨垫的表面粗糙度增加，

如果所述检测部检测到的光量增加，就判断为所述研磨垫的表面粗糙度减少。

12.根据权利要求7所述的垫监测装置，

对针对所述窗口垫的光照射角度进行调节，

所述检测部根据接收的反射光的光量来检测针对所述窗口垫产生全反射的入射角。

13.根据权利要求12所述的垫监测装置，

所述分析仪根据所述窗口垫的表面状态来设定针对产生全反射的入射角的数据库，且基于所述数据库来检测与所述检测的入射角相匹配的所述窗口垫的表面状态信息。

14.一种垫监测系统，其包括：

研磨装置，其包括研磨台板及附着于所述研磨台板的上部且形成有透光性窗口垫的研磨垫；

光学系统，其设置于所述研磨台板的下部，且向所述窗口照射光从而获取所述窗口垫的表面状态信息；以及

分析仪，其以所述光学系统获取的信息为基础监测所述研磨垫的表面状态。

15.根据权利要求14所述的垫监测系统，所述光学系统包括：

光纤电缆，其附着于所述窗口垫的下面，且形成光的移动路径；

光源，其连接于所述光纤电缆的一侧并产生光；以及

检测部，其连接于所述光纤电缆的另一侧，接收从所述窗口垫的表面散射的反射光。