[发明专利]红外截止膜及其生产方法有效
| 申请号： | 201811223451.6 | 申请日： | 2018-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN109206020B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 龙家勇;徐佳霖 | 申请（专利权）人： | 布勒莱宝光学设备（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;C03C17/34 |
| 代理公司： | 北京酷爱智慧知识产权代理有限公司 11514 | 代理人： | 占丽君 |
| 地址： | 100176 北京市亦*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 红外 截止 及其 生产 方法 | ||
1.一种红外截止膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：采用磁控溅射法在玻璃基材上依次镀制氮化硅层、氧化硅层、氧化铟锡层、氧化硅层和氮化硅层，且所述玻璃基材、氮化硅层、氧化硅层、氧化铟锡层、氧化硅层和氮化硅层的厚度之比依次为6mm：(40～60)nm：(30～50)nm：(130～150)nm：(30～50)nm：(40～60)nm；控制所述磁控溅射的本体真空度8×10-6mbar；且镀膜材料的种类大于或等于两种时，相邻两个不同工艺气氛的隔离系数20；镀制氮化硅层时，溅射阴极工作气氛为4～5×10-3mbar，工艺配气比例为氩气比氮气为450sccm∶650sccm；镀制氧化铟锡层时，溅射阴极工作气氛为2.5～3×10-3mbar，工艺配气比例为1000sccm氩气；镀制氧化硅层时，溅射阴极工作气氛为2.5～3.5×10-3mbar，工艺配气比例为氩气比氧气为500ccm∶360sccm；
S2：将镀膜后的基材进行钢化处理，将镀膜后的基材进行钢化处理，加热时间为290s，上温度为710℃，下温度为690℃，对流关闭，最终得到氧化铟锡为功能层的红外截止膜。
2.采用权利要求1所述方法制备得到的红外截止膜。
3.权利要求2所述的红外截止膜在镀有红外截止膜的产品中的应用，且所述应用的 方式包括单片式、夹胶式和中空式中的一种或多种。
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